フォトマスク処理プラットフォーム

ASxシリーズ フォトマスク処理プラットフォーム

歩留まりと品質を最大化：ASxシリーズは、250 nmから65 nmウェハの高度なベーク、レジスト剥離・洗浄、現像処理を1台で実現する全自動フォトマスク処理プラットフォームです。

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卓越した性能、コンパクト設計

ASxシリーズは、業界をリードする精度と最高の信頼性と性能を兼ね備えており、248nmおよび193nmリソグラフィに露光されたマスクの欠陥のない処理という重要な課題に対応します。また、優れた洗浄効率と比類のない所有コストを実現しています。

クラス最高のクリーニング歩留まり

ファーストパス洗浄歩留まりに優れたASxシリーズは、業界で実証された洗浄技術により、マスクの寿命を延ばし、生産コストを削減します。

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業界をリードするフットプリント

コンパクトなフットプリント：1200 × 1200 mmのASxシリーズは、最高の処理性能を損なうことなく、スペースを最大限に活用し、所有コストを削減します。

最先端のアドバンスド・ベーク

14nmノード以降の高度なベークテクノロジーにより、次世代リソグラフィアプリケーションの最も厳しい仕様を満たすフォトマスクを提供します。

スマート・オートメーション

アドバンスト・ポストエクスポージャー・ベーク（AEP）、ケミカル・フィルター、精密な気候制御、モニタリング機能を統合したクラスター設計により、高度に制御されたPEBステップを実現し、最大限のプロセス安定性、信頼性の高い結果、優れたマスク品質を保証します。

エンジニアリングの精度と製造の卓越性

ASxシリーズ フォトマスク処理プラットフォームの主な特長

ASxシリーズは、インテリジェントな温度制御、自動化されたプロセス最適化、欠陥を最小限に抑える現像液技術により、妥協のない技術性能を提供し、複雑なフォトマスク処理を業界をリードする安定した結果に変えます。

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25ゾーンホットプレートシステム

インテリジェントホットプレートシステムは、平均温度上昇中および目標温度でのフォトマスク表面の精密な温度均一性を可能にし、最適なポストエクスポージャーベークと高品質な結果を保証します。

プロセスの自動最適化

内蔵アルゴリズムが90～130℃のベーク性能を自動的に微調整し、正確なCD-mean-to-targetコントロールと安定したマスク品質を保証します。

最も欠陥の少ない現像液

A+ノズルディスペンスシステム／ディスペンスシステムは、マスク全体に現像液を均一に分配し、アクティブ脱ガスにより微小気泡を防止することで、欠陥を最小限に抑え、歩留まりを最大化します。

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