코팅 솔루션

RCD8 반자동 코터 및 현상액 개발기

RCD8 플랫폼은 최대 200mm 웨이퍼에 대한 정밀한 코팅 및 현상액을 제공합니다. R&D 및 소규모 생산을 위해 설계된 이 플랫폼은 안정적인 공정 제어와 재현 가능한 결과를 결합합니다. 고품질 구성 요소는 산업 신뢰성을 보장하며, 교체 가능한 기판 척을 통해 다양한 웨이퍼 재료와 형상을 처리할 수 있습니다.

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유연한 적용을 위한 산업 정밀도

검증된 생산 기술과 유연한 공정 구성을 위한 모듈식 아키텍처가 결합된 RCD8의 호환 가능한 플랫폼 아키텍처는 대량 생산 시스템으로의 원활한 업그레이드, 통합 및 공정 이전을 가능하게 하여 실험실, 연구 시설 및 파일럿 라인에 이상적으로 적합하며 모두 작고 인체공학적인 설치 공간에서 사용할 수 있습니다.

프로덕션에서 입증된 성능

SUSS의 대량 생산 시스템과 동일한 구성 요소로 제작된 RCD8은 실험실에서 사용할 수 있는 컴팩트한 디자인에 동일한 고품질과 산업적 신뢰성을 제공합니다.

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고급 모듈식 구성

코터, 현상액, 핫플레이트, 베이퍼 프라이머 및 LabCluster 통합을 아우르는 구성 옵션을 통해 RCD8은 변화하는 연구 및 생산 요구 사항에 맞게 조정할 수 있습니다. 이 플랫폼은 현장에서 업그레이드 가능한 옵션으로 광범위한 기판 모양과 말 그대로 모든 종류의 기판 재료를 수용합니다.

자동화를 위한 원활한 스케일업

RCD8에서 개발된 공정은 SUSS의 ACS200 Gen3 완전 자동화 플랫폼으로 쉽게 이전할 수 있어 개발 단계부터 전체 생산까지 일관된 공정 파라미터를 보장하는 동시에 검증 시간을 단축하고 확장하는 동안 공정 무결성을 유지할 수 있습니다.

RCD8 반자동 코터 및 현상액의 주요 특징

정밀한 공정, 재현 가능한 결과

정밀한 스핀 속도, 가속도 제어, 최대 55,000cps의 점도를 지원하는 견고한 디스펜싱 시스템을 갖춘 RCD8은 일관된 코팅 및 현상액 성능을 제공합니다. 또한 이 시스템은 확장 옵션을 통해 개별 생산 요구 사항에 맞게 조정할 수 있어 다양한 재료와 응용 분야에 적합합니다.

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최대 10,000rpm의 회전 속도

척은 최대 10,000rpm(요청 시 12,000rpm까지 업그레이드 가능)의 최대 회전 속도를 지원하여 다양한 코팅을 위한 최적의 필름 형성을 보장합니다.

초당 7,000rpm의 가속도

최대 7,000rpm/s의 가속 속도로 코팅 동역학을 완벽하게 제어할 수 있습니다. 매끄럽고 결함 없는 층을 만들고 재료 특성에 맞게 공정을 정확하게 조정할 수 있습니다.

최대 55,000cps의 점도

RCD8에는 1cps 미만에서 최대 55,000cps의 포토레지스트 점도를 위한 검증된 디스펜싱 시스템이 장착되어 있어 가능한 모든 응용 분야를 커버할 수 있습니다.

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