塗布ソリューション

半自動コーター＆現像液 RCD8

RCD8プラットフォームは、最大200mmまでのウェハーに対応し、高精度な塗布・現像を実現します。研究開発および小規模生産向けに設計され、安定したプロセス制御と再現性の高い結果を兼ね備えています。高品質なコンポーネントが工業的な信頼性を確保し、交換可能な基板チャックが異なるウェーハ材料や形状の処理を可能にします。

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フレキシブルなアプリケーションに対応する工業的精度

RCD8の互換性のあるプラットフォームアーキテクチャは、シームレスなアップグレード、統合、大量生産システムへのプロセス移行を可能にし、ラボ、研究施設、パイロットラインに最適です。

生産実績のある性能

RCD8は、SUSSの大量生産システムと同じコンポーネントで構成され、コンパクトで実験室でも使用可能なデザインで、同じ高品質と工業的信頼性を提供します。

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高度なモジュラー構成

RCD8は、コーター、現像液、ホットプレート、ベーパープライマー、およびLabClusterとの統合を含む構成オプションにより、変化する研究および生産ニーズに適応します。このプラットフォームは、フィールドアップグレード可能なオプションにより、幅広い基板形状と文字通りあらゆる種類の基板材料に対応します。

自動化へのシームレスなスケールアップ

RCD8で現像液が開発されたプロセスは、SUSSのACS200 Gen3完全自動化プラットフォームに容易に移行することができ、開発段階から完全生産まで一貫したプロセスパラメータを確保しながら、適格性確認に要する時間を短縮し、スケーリングを通してプロセスの完全性を維持することができます。

RCD8半自動コーター＆現像液の主な特長

正確なプロセス、再現性のある結果

RCD8は、正確なスピン速度、加速度制御、最大55,000cpsの粘度に対応する堅牢なディスペンシングシステムにより、安定したコーティングと現像性能を実現します。また、オプションのエクステンションにより、個々の生産ニーズに対応することができ、幅広い材料とアプリケーションに適しています。

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最大スピン速度10,000 rpm

チャックは最高回転速度10,000 rpm（ご要望に応じて12,000 rpmまでアップグレード可能）に対応し、さまざまなコーティングに最適な成膜を実現します。

毎秒7,000回転の加速度

最大7,000 rpm/sの加速度により、コーティングダイナミクスを完全に制御できます。滑らかで欠陥のない層を実現し、プロセスを材料特性に正確に適応させます。

最大粘度55,000cps

RCD8は、フォトレジスト粘度1cps以下から55,000cpsまで、あらゆるアプリケーションに対応する実績のあるディスペンシングシステム／ディスペンスシステムを搭載しています。

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