塗佈解決方案

MCS8 手動塗佈及顯影系統

MCS8 提供模組層級的多元選配,可彈性配置並支援超過 500 種設定組合,帶來高度製程彈性。作為手動塗佈與水性顯影的解決方案,MCS8 特別適用於新創團隊、研發 R&D 與小量生產環境

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可依需求個別調整的系統

透過 MCS8,您可依製程需求彈性建置流程,從旋轉塗佈與顯影,到烘烤與清洗皆可依模組進行配置。智慧化的模組化設計在節省占地的同時維持操作簡便,並支援多元應用,提供穩定且一致的製程表現

超過 500 種配置可能

MCS8 可整合多種塗佈、顯影、烘烤與清洗模組,如 RCD8、AS8、HP8、LabSpin8、VP8、CP8,並可依製程需求與應用情境進行模組化配置,組合出超過 500 種設定選項

穩健的小量 / 高產能製程表現

MCS8 建構於成熟的高產量製造 HVM 技術基礎之上,將量產等級的可靠性、精準度與製程穩定性帶入實驗室、新創與試產線,並可依現場需求以合適規模部署

精巧占地

憑藉模組化設計,MCS8 以精巧占地提供多元功能選擇。僅需一套供應系統與一套廢液管理系統,即可支援設備彈性擴充,節省寶貴的無塵室空間

可擴充為完整 LabCluster

可從小規模起步,隨需求成長逐步擴充。MCS8 LabCluster 最多可配置六個框架Frame,每個框架可搭配兩個模組進行客製化組合、亦可選配塗佈、顯影或底塗Priming工具,打造更完整的一站式製程配置

MCS8 手動塗佈系統 的主要特色

為創新而生的擴充性

從早期研究到小量生產,MCS8 可隨您的專案一同成長。系統可由單一模組擴充至六個機架、共十二個模組,並可擴展為完整的 LabCluster,支援無可比擬的先進應用範圍

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打造最適合您的模組配置

每框架 Frame 可配置兩個可客製化模組,作為 MCS8 的起始組合。您可從 SUSS 多樣化的手動與半自動塗佈/水性顯影設備中選擇模組,例如 LabSpin8、HP8 熱板、VP8 (Vapor Primer),以及具主動冷卻功能的 CP8 冷板

透過新功能升級

擴展更多可能:系統可加裝多項選配功能,例如 LabSpin 的自動供液系統,或熱板用的近接定位針 Proximity Pins 。這些升級有助於簡化工作流程、提升製程一致性,並擴充系統能力以對應更多應用需求

建置完整製程解決方案

打造一體整合的製程配置:MCS8 LabCluster 最多可結合六個框架,總計 12 個模組於同一套系統中;並可搭配 SUSS 的 RCD8 或 AS8 等塗佈/顯影工具,支援多元應用領域,包括 MEMS、III-V、電子束微影、奈米壓印、微流體與微光學等

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