MaskTrack Pro 系列

光掩模製程 適用於下一代光刻技術

MaskTrack Pro 系列專為平衡 193i 1x nm 半間距（hp）DPT、極紫外光刻 (EUVL) 及奈米光刻 (NIL) 處理的最嚴格條件而設計，並採用創新技術，可將光罩效能發揮到極致。

與專家討論

專為下一代光刻需求而設計

隨著掩模完整性在先進光刻處理的成功中扮演更重要的角色，MaskTrack Pro 系列是唯一專門針對 EUVL 而設計的平台。

模組化架構

它具有可擴展性，允許與第三方產品進行設備集群，以便在完全受控的超潔淨環境中以整體方式進行掩膜的儲存、處理和加工。

業界領先的選擇

憑藉其最高的首道清洗良率，MaskTrack Pro 系列已被業界公認為首選平台。

符合業界標準的處理

Masktrack Pro 系列專為無縫整合而設計，符合嚴格的業界標準。它符合 SEMI S2、S8 和 S13 標準，具有 CE 標誌，並可在 DIN EN ISO 14644 Class 2 受控環境中使用。搭配標準 SECS/GEM 200/300 mm 介面，可立即實現工廠自動化。

專為半導體市場需求量身打造

Masktrack Pro 系列的主要特點

隨著掩模完整性在先進光刻處理的成功中扮演更重要的角色，MaskTrack Pro 系列是唯一專為 EUVL 而設計的平台。

DSC09655_highRes (2).jpg
最低瑕疵的顯影劑

A+ 噴嘴供液系統可將顯影劑均勻地分佈在整個光罩上，實現快速、均勻的表面濕潤和介質交換 - 確保最小的瑕疵和最佳的品質。

ASONIC 技術

聲波串流帶來卓越的顯影劑：透過使用 MegaSonic 能量激發表面，ASONIC-Technology® 可增加顯影劑的介質交換，以達到均勻的利用率，並改善 CD 的均勻性。

最新的清潔技術

雙超音波與高壓全噴射清洗、刷式清洗，以及原位 SC1/SPM、UV 乾式清洗、超淨 DI 製程、背面沖洗與 ESD 安全選項：Masktrack Pro 系列提供符合現代淨室要求的精密清洗技術。

下載

尋找更多詳細資訊？請點選以下連結，下載技術資料表和深入產品資訊的產品簡報。

Product Overview Brochure EN
PDF

相關 產品

探索我們的光罩解決方案組合

ASx 系列

全自動光掩模加工平台，可在 250-65 奈米晶圓上進行先進的烘烤、光刻胶剥离、清洗、烘烤與顯影。
了解更多
APB9500-1600x1200.png
自動化

智慧型 BD 面罩

世界級先進工業光刻應用光罩烘烤與顯影液開發的旗艦平台。
了解更多
MASKTR~1.PNG
自動化

隨時掌握最新資訊：SUSS' 最新消息

新聞稿、投資人關係新聞等：探索我們的最新出版物，瞭解 SUSS 的最新動態。

17/11/2025
SUSS presents ambitious plans for further sales growth and sustainable margin improvement at Capital Markets Day
Corporate News
CapitalMarketsDay_NewsTeaser_Small_642x362_16_9.jpg
06/11/2025
SUSS expects significant improvement in order momentum in the fourth quarter
Corporate News
QuarterlyFigures_NewsTeaser_Small_642x362_16_9.jpg
30/10/2025
New SUSS production site in Zhubei has officially opened
Corporate News
Zhubei_Opening_NewsTeaser_Small_642x362_16_9.jpg
07/08/2025
SUSS finishes first half of the year with significant sales growth
Corporate News