Masktrack Pro Serie

Fotomaskenprozessierung der nächsten Generation

Die MaskTrack Pro Serie wurde entwickelt, um die strengsten Bedingungen der 193i 1x nm Half-Pitch (hp) DPT, Extreme-Ultraviolet-Lithography (EUVL) und Nanomprint-Lithography (NIL) mit innovativen Techniken zur Maximierung der Maskenleistung zu erfüllen.

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Entwickelt für die Anforderungen der Lithografie der nächsten Generation

Da die Maskenintegrität eine immer größere Rolle für den Erfolg fortschrittlicher lithografischer Verfahren spielt, ist die MaskTrack Pro Serie die einzige Plattform, die speziell für EUVL entwickelt wurde.

Modulare Architektur

Die Masktrack Pro Serie erweiterbar, um eine Kombination mit Produkten von Drittanbietern zu gewährleisten und so einen ganzheitlichen Ansatz für die Lagerung, das Handling und die Bearbeitung der Fotomaske in einer vollständig kontrollierten und extrem sauberen Umgebung zu ermöglichen.

Die führende Wahl der Industrie

Mit dem höchsten Reinigungsgrad im ersten Durchgang hat sich die MaskTrack Pro Serie als die Plattform der Wahl in der Branche durchgesetzt.

Industriekonforme Verarbeitung

Die Masktrack Pro Serie wurde für eine nahtlose Integration entwickelt und erfüllt strenge Industriestandards. Sie ist SEMI S2, S8 und S13 konform, CE-gekennzeichnet und für eine DIN EN ISO 14644 Klasse 2 kontrollierte Umgebung gebaut. Mit einer standardmäßigen SECS/GEM 200/300-mm-Schnittstelle ist sie sofort für die Fabrikautomatisierung bereit.

Maßgeschneidert auf die Bedürfnisse des Halbleitermarktes

Hauptmerkmale der Masktrack Pro Serie

Da die Maskenintegrität eine immer wichtigere Rolle für den Erfolg der fortschrittlichen Lithografie spielt, ist MaskTrack Pro die einzige Plattform, die speziell für EUVL entwickelt wurde.

Geringster Fehler Entwickeln

Das A+ Düse-Aufbringsystem verteilt die Entwickler gleichmäßig über die gesamte Maske und sorgt so für eine schnelle und gleichmäßige Oberflächenbenetzung und einen Medienaustausch - für minimale Defekte und optimale Qualität.

ASONIC-Technik®

Akustisches Streaming für hervorragende Entwicklung: Durch den Einsatz von MegaSonic-Energie zur Anregung der Oberfläche erhöht die ASONIC-Technologie® den Austausch von Entwicklermedien für eine gleichmäßige Ausnutzung und verbesserte Gleichmäßigkeit der CD.

Neueste Reinigungstechnologien

Zweifrequenz - Megaschallreinigung, Hochdruck-Fulljet-Reinigung, Bürstenreinigung sowie in-situ SC1/SPM, UV-Trockenreinigung, ultrareine DI-Verfahren, Rückseitenreinigung und ESD-sichere Optionen: Die Masktrack Pro-Serie bietet hochentwickelte Reinigungstechnologien, die den modernen Reinraumanforderungen entsprechen.

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