自動塗布ソリューション

ACS200Gen3 TE 200 mmコーター&現像液

ACS200 Gen3 TEは、200mmウェーハ対応のACS200 Gen3をさらに進化させ、将来の先進パッケージングアプリケーションに対応したスループット、将来対応オプション、操作性を備えています。

 

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より高いスループット、より快適な操作性

高度な自動化、比類のない構成の柔軟性:ACS200 Gen3 TEは、革新的な機能と安定した処理を兼ね備えており、研究開発成果を堅牢な大量生産に移行するためのプラットフォームとして最適です。

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拡張された柔軟性

構成可能な3M、5M、6Mフレームと100~200mmウェーハ処理による製造の柔軟性と、高速な装置切り替えを体験してください。スケーラブルでフィールドアップグレード可能なクラスターアーキテクチャー、2台または4台のI/Oステーション、または連続稼働ロードポート、さらに市場をリードするスケジューラーの特性により、最大の生産性と安定した結果を提供します。

生産性の向上

ACS200 Gen3 TEは、ACS200 Gen3と比較してスループットを30%以上向上させました。最大6つのスピナーモジュールとインモーションセンタリング(IMOC)の導入により、ハンドリングプロセスが合理化され、アライメント工程が不要になるため、より高速で効率的な処理が可能になります。

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快適な操作性

ACS200 Gen3 TEには、2台の標準モニターと簡単にアクセスできるメディアキャビネットが装備され、使いやすさと利便性が向上しています。さらに、EMO(エマージェンシー・オフ)ボタンがリフトされ、誤作動を防ぐとともに、白を基調としたモダンなカラースキームが作業環境を改善します。

メディアフロー精度の向上

プロセスの安定性と柔軟性のための新機能:精密なフローコントローラーにより、より正確な現像液ディスペンシングが可能になりました。また、新しい複合現像液モジュールは、水系と溶剤系の両方のプロセスに対応するため、別々のモジュールを必要としません。

難易度の高いウェーハも楽々ハンドリング

反りウェーハ、極薄ウェーハ、スタックウェーハ - 洗練されたチャックとボウル設計、エンドエフェクタを備えた特別設計の装置は、静電気放電(ESD)に対するあらゆる保護基準を満たしながら、あらゆる種類の基板を確実にハンドリングします。

ACS200 Gen3 TE 200mmコーター&現像液の主な特長

究極のパフォーマンスのベンチマーク

ACS200 Gen3 TEは、正確で柔軟かつ堅牢なオペレーションを可能にし究極のスループットを実現します。

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高精度薄膜レジスト加工

再配線層(RDL)および微小電気機械システム(MEMS)アプリケーションに最適:超低粘度(<100cp)から高粘度(<5,000cp)までの薄いレジストアプリケーションに対応し、薄膜(<100nm)から厚膜(<10um)までの膜厚を実現します。

先進パッケージングのための厚膜レジストプロセス

先進パッケージングアプリケーション用に設計され、<5µmから<250µmまでのパッシベーションを含む膜厚を達成することができます。ACS200 Gen3は、低粘度(<100cp)から高粘度(<20,000cp)までのあらゆるタイプのレジストを処理できます。

多彩な現像液プロセス

TMAHから溶剤ベースの溶液まで、さまざまなメディアを使用して、薄いレジストや厚いレジスト、ポリイミドを現像するための最大限の柔軟性を得ることができます。さまざまなノズルタイプとN2パージ乾燥オプションにより、常に正確なコントロールと完璧な結果を得ることができます。

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