自動塗工ソリューション

ACS200 Gen3 200mm 自動コーター&現像液

ACS200Gen3は、100mm~200mmウェハーの研究開発から量産まで対応可能なコーター&現像液処理装置です。モジュール式アーキテクチャにより、このプラットフォームはお客様の特定のニーズに容易に適応し、シームレスなスケーラビリティと安定したオペレーションを保証します。

 

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あらゆる規模に対応する柔軟なソリューション

ACS200 Gen3は、堅牢なオートメーションと柔軟なモジュールにより、研究および大量生産の両方において信頼性の高い処理を実現します。高い再現性により、一貫した結果と歩留まりを保証し、高品質な設計によりダウンタイムを最小限に抑え、お客様の特定のニーズに適応します。

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柔軟性と生産性を再定義

構成可能な3M、5M、6Mフレームと100~200 mmウェーハ処理による高い柔軟性と、高速な装置切り替えを実現します。スケーラブルでフィールドアップグレード可能なクラスタアーキテクチャと市場をリードするスケジューラ特性により、最大の生産性を実現します。

独自のGYRSET®コーター技術

SUSS'独自のGYRSET ®テクノロジーは、コーティング中に乱流のない、溶媒リッチな雰囲気を作り出し、周囲条件に左右されない安定した結果を保証します。ミスプロダクションを減らし、持続可能性をサポートし、厚膜レジストプロセスに特に効果的です。

スケーラブルなプロセスモジュール数

ACS200 Gen3は、2台または4台のI/Oステーションを標準装備し、連続運転ロードポートを備えているため、個々の生産量やプロセス要件に的確に対応します。これにより、どのような製造規模においても最大限の柔軟性とスループットが保証されます。

難易度の高いウェーハも楽々ハンドリング

反りウェーハ、極薄ウェーハ、スタックウェーハ - 洗練されたチャックとボウル設計、エンドエフェクタを備えた特別設計の装置は、静電気放電(ESD)に対するあらゆる保護基準を満たしながら、あらゆる種類の基板を確実にハンドリングします。

最高の精度:SUSSディスペンスシステム/ディスペンスシステム

レジスト供給システム一体型のSUSSディスペンスシステムは、低粘度から高粘度までの材料を正確かつ繰り返し投与することができます。自己較正機能とクローズドループ制御が高精度を保証し、バブルセンサーが完璧な塗布を保証します。

ACS200 Gen3の主な特長

あらゆるニーズに対応するコーター

ACS200 Gen3は、再配線層(RDL)から微小電気機械システム(MEMS)まで、多様なニーズに高い品質でハンドリングします薄いレジスト層、厚いレジスト層、現像液の種類を問わず、毎回完璧な結果を得ることができます。

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高精度薄膜レジスト加工

再配線層(RDL)および微小電気機械システム(MEMS)アプリケーションに最適:超低粘度(<100cp)から高粘度(<5,000cp)までの薄いレジストアプリケーションに対応し、薄膜(<100nm)から厚膜(<10um)までの膜厚を実現します。

先進パッケージングのための厚膜レジストプロセス

先進パッケージングアプリケーション用に設計され、<5µmから<250µmまでのパッシベーションを含む膜厚を達成することができます。ACS200 Gen3は、低粘度(<100cp)から高粘度(<20,000cp)までのあらゆるタイプのレジストを処理することができます。

多彩な現像液プロセス

TMAHから溶剤ベースの溶液まで、さまざまなメディアを使用して、薄いレジストや厚いレジスト、ポリイミドを現像するための最大限の柔軟性を得ることができます。さまざまなノズルタイプとN2パージ乾燥オプションにより、常に正確なコントロールと完璧な結果を得ることができます。

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