ハイブリッドアプローチによる持続可能なウェーハ洗浄

GT200

GT200は、ウェーハ洗浄および剥離プロセスに特化した、環境に配慮した製造ソリューションです。フォトレジスト除去や表面活性化から高品質な最終洗浄まで、GreenTec Solutionsは相互に補完するプロセス機能を1つの構成可能なプラットフォームに統合します。これらの機能を集約することで、GT200は装置構成の細分化を抑え、プロセスフローを簡素化し、効率的で信頼性の高い生産のためのより一貫した基盤づくりを支援します。

Totale_Machine_GreenTrack200 LVM

フォトマスク処理で培った実績ある専門知識を基盤とする、専用ウェーハ洗浄プラットフォーム

環境負荷の低いプロセス媒体とSUSSのハイブリッド剥離方式を組み合わせることで、危険物質の使用を不要にします。

EHSリスクへの曝露を低減

GT200は、環境負荷の低いプロセス媒体や代替剥離方式を活用し、危険物質の使用量を削減します。これにより、安定した洗浄性能を維持しながら、EHSリスクへの曝露を低減し、廃棄物処理を簡素化するとともに、社内のサステナビリティ目標を支援します

GT200 LVM - TurbulenStrip
プロセスの複雑さを軽減

複数の洗浄・剥離工程を柔軟な1つの装置コンセプトに集約することで、GT200はウェーハ搬送と装置構成の複雑さを軽減します。これにより、より安定したプロセスフロー、少ないインターフェース、ライン全体の運用効率向上を実現します。

学習サイクルを短縮

少量生産向けに設計されたGT200は、管理された実験、プロセスの調整、レシピ開発を可能にします。SUSSのプロセス専門知識と組み合わせることで、お客様は導入までの期間を短縮し、評価から安定生産へより迅速に移行できます。

総所有コストを低減

SUSS GT200は、薬液使用量と有害廃棄物を削減し、安全対策や除害に関する要件を簡素化することで、TCOの低減を支援します。プロセス媒体の効率的な使用とモジュール式のプロセス統合により、ファブは資源をより効果的に管理できます。

拡張可能なプロセス移管

モジュール式のプラットフォームコンセプトと共同評価アプローチにより、パイロットラインや認定プロセスで培ったプロセスノウハウを量産へ移管できます。これにより、お客様は早い段階で確信を深め、一貫したプロセス戦略のもとで生産を拡大できます。

持続可能な洗浄性能のベンチマーク

GT200の主な特長

化学物質による環境負荷を抑え、プロセス制御を向上させ、信頼性の高い製造を支える先進的な環境配慮型洗浄・剥離技術です。

TurbulenStrip技術

TurbulenStripは、浸漬槽での剥離処理と専用のGreen Fluidsを組み合わせた、動的な枚葉ウェットプロセスを採用しています。局所的な乱流が基板表面に大きな力を生み出し、レジスト、ポリマー、デスカム、エッチング後の効率的な洗浄を支えながら、クロスコンタミネーションを抑制します。さらに、DMSOと比較して使用量と廃棄量を半減できます。

CrustBusterによるUV残渣除去

CrustBusterは、SUSSの特許取得済みin-situ UV技術を適用し、基板表面で有機物を直接分解します。このハイブリッドアプローチにより、薬液使用量を大幅に抑えた剥離が可能になり、デリケートな構造への優しい処理と持続可能な製造目標の達成を支援します。

Spin Rinse Dryによる効率的な最終洗浄

GT200は、最大200 mmのウェーハに対応し、最大45枚/時の処理能力を備えています。100 nmを超える粒子に対して、99 %の粒子除去効率を実現します。コンパクトな設置面積とモジュール式の構成により、管理された条件下でのプロセス学習、プロセス認定、および少量生産に適しています。

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