Beschichtungslösungen

HP8-Heizplatte für manuelle Beschichtung

Die HP8-Heizplatte für manuelle Beschichtungslösungen wurde für anspruchsvolle F&E-Anwendungen entwickelt und vereint Präzision, Flexibilität und Sicherheit in einem kompakten Gerät. Mit verschiedenen Konfigurationsoptionen und nahtloser Integration in Laboreinrichtungen liefert das System reproduzierbare Ergebnisse für die anspruchsvollsten F&E-Prozesse.

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Die kompakte Lösung für Ihren F&E-Erfolg

Präzise und vielseitig: Das HP8 ist die ideale Lösung für die Erwärmung von Substraten mit einem Durchmesser von bis zu 200 mm und Temperaturen von bis zu 250 °C in F&E-Umgebungen. Mit hervorragender Temperaturgleichmäßigkeit, flexiblen Verarbeitungsoptionen und mehreren Montagekonfigurationen unterstützt er mühelos anspruchsvolle Prozesse im kleinen Maßstab.

Schnelles Heizen

Schnelles Aufheizen und perfekt gleichmäßige Temperaturverteilung: Die ausgeklügelte und bewährte Heizschlangentechnologie gewährleistet jederzeit stabile Prozesse.

Intuitive Bedienung

Die intuitive Touchscreen-Benutzeroberfläche macht die Einrichtung und Überwachung mühelos und gewährleistet eine einfache Prozessausführung durch jeden Benutzer.

 

 

Intelligente Heizungsautomatisierung

Einmal programmieren, ohne manuelle Anpassungen laufen lassen: Erstellen Siemit dem speziellen Touchpanel-Controller präzise Temperaturprofile, die auf Ihre individuellen Prozessanforderungen zugeschnitten sind.

Ergonomische Handhabung

Drei Hebebolzen unterstützen das bequeme und sichere Laden des Substrats, was Handhabungsfehler reduziert und die Sicherheit während des Betriebs erhöht.

Hauptmerkmale der manuellen Heizplatte HP8

Passt sich an Ihre täglichen Laboranforderungen an

Vom Rapid Prototyping bis zur anspruchsvollen mehrstufigen Entwicklung - die HP8 passt sich Ihren Anforderungen genau an. Mit ihren individuellen Programmiermöglichkeiten und ihrer Präzisionstechnik bewältigt sie einfache Beschichtungsaufgaben und komplexe Forschungsprotokolle mit gleicher Kompetenz.

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Bis zu 200 mm Substrate rund oder 6" quadratisch

Das System lässt sich problemlos an unterschiedliche Probengrößen anpassen und bietet so maximale experimentelle Flexibilität - von kleinen Teststücken bis hin zur vollständigen und komplexen Bearbeitung von Wafern.

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200 individuelle Rezepte

Speichern Sie Ihre gesamte Prozessbibliothek in einem einzigen System. Definieren Sie bis zu 200 komplexe, mehrstufige Protokolle, die sich in einfache One-Touch-Vorgänge verwandeln lassen und für konsistente Ergebnisse in Ihrem Team sorgen.

Bis zu 120 °C mit ±0,5 °C und bis zu 250 °C mit ±1% Genauigkeit

Der große Temperaturbereich und die außergewöhnliche Temperaturgleichmäßigkeit über das gesamte Substrat gewährleisten zuverlässige, wiederholbare Ergebnisse - entscheidend für empfindliche Beschichtungsprozesse und hochwertige Forschungsergebnisse.

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