Bildgebende Systeme

DSC300 Gen3 Projektionsscanner

Der DSC300 Gen3 ist die vollautomatische, durchsatzstarke Lösung von SUSS für die Projektionslithografie im Advanced Packaging auf 300- und 200-mm-Wafern. Dank der firmeneigenen Scantechnologien vereint er hohe Leistung, Kosteneffizienz und eine große Prozessflexibilität.

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Projektionslithografie für fortschrittliche Verpackungen

Vollfeld-Belichtung und firmeneigenes Scannen sorgen für präzise Musterübertragung und konsistente Prozessergebnisse. Einstellbare Optiken und Konfigurationen unterstützen eine breite Palette von fortschrittlichen Verpackungsanwendungen und bieten eine kosteneffiziente Alternative zur stepperbasierten Lithografie.

Nahtlose Belichtung für gleichbleibenden Ertrag

Die Vollfeldbebilderung und das proprietäre Scannen gewährleisten eine defektfreie Lithografie ohne Einschränkungen der Schrittfeldgröße oder des Designs, was zu schnelleren Prozesszyklen und einer gleichbleibend hohen Ausbeute führt.

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Top-Kosten, Top-Effizienz

Dreistelliger Durchsatz in Kombination mit minimierter Overhead-Zeit: Stabile Leistung unabhängig von Stanzformgröße und Layout machen den DSC300 Gen3 zu einer produktiven und kosteneffizienten 1X-Projektionsscanner-Plattform.

Universelle optische Flexibilität

Nach Rezept wählbare numerische Aperturen und mehrere Belichtungswellenlängen ermöglichen die Anpassung von feinen 2 µm Linien und Zwischenräumen bis hin zu dickeren Lackschichten. Je nach dem Verhältnis von Linien zu Zwischenräumen sind auch kleinere Mustergrößen möglich, die eine genaue Abbildung für eine Vielzahl von Anwendungen gewährleisten.

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Erweiterte Verpackungsergebnisse

Erzielen Sie eine Auflösung von 2/2 µm mit <1 µm Overlay, präziser Temperaturregelung und einem Die-Shift-Ausgleich von ± 200 ppm: Die DSC300 Gen3 gewährleistet eine kontaminationsfreie Verarbeitung und hohe Genauigkeit selbst bei anspruchsvollsten Verpackungsanwendungen.

Hauptmerkmale der DSC300 Gen3

Entwickelt für fortschrittliche Packaging-Anwendungen

Die DSC300 Gen3 basiert auf der fortschrittlichen Wynne-Dyson-Optik und bietet eine präzise Bildgebung, eine robuste Ausrichtung und eine flexible Handhabung des Substrats. Dies gewährleistet die Präzision, Ausbeute und Anpassungsfähigkeit, die für Wafer-Level-Packaging, Fan-out und 2,5D/3D-Integration erforderlich sind.

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Überlegene Optik mit 2 µm Auflösung und hohem DOF

Die Optiken von Wynne-Dyson erreichen eine Auflösung von 2/2 µm mit mehreren NAs, um Auflösung und Schärfentiefe auszugleichen. Breitbandfilter, symmetrisches Design und chromatische Fehlerkorrektur sorgen für eine hervorragende Gleichmäßigkeit und Abbildungsqualität für fortschrittliche Verpackungen.

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1 µm Overlay-Genauigkeit plus Die-Shift-Kompensation

Die optische Ausrichtung liefert eine Überlagerungsgenauigkeit von ≤ 1,0 µm, unterstützt durch Off-Axis- und IR-Optionen. Die firmeneigene Vergrößerungskorrektur und Strahlsteuerung ermöglichen einen schnellen Die-Shift-Ausgleich und eliminieren thermische Verzögerungsfehler für eine gleichbleibende Leistung von Wafer zu Wafer.

Breites Spektrum an Substraten und Handhabung von Verzug

Die DSC300 Gen3 ist für 300-mm-Wafer (200 mm optional) ausgelegt und verarbeitet auch Silizium-, Glas- und SiC-Substrate. Sie unterstützt eine Verformung von bis zu 2 mm und bietet damit Flexibilität für verschiedene fortschrittliche Packaging-Anwendungen.

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