光罩設備

通過最高的面具完整性引人注目

每次引入新技術節點都需要在光掩模處理方面進行創新。 SUSS MicroTec 與客戶、技術合作夥伴和原始設備製造商密切合作，以完全了解掩模車間和晶圓廠客戶的需求，並提供可保證最高水平掩模完整性的解決方案。

SUSS MicroTec 成熟的光掩模加工設備套件涵蓋了所有技術節點，包括從剝離和清潔到曝光後烘烤和顯影工藝的 1x 半間距範圍的下一代光刻。