HP8 Heizplatte

Hot-Plate für R&D, Labore und kleinvolumige Produktion

SÜSS MicroTecs manuelle Hot-Plate HP8 ist speziell für das Aufgabengebiet von Forschungsarbeit und kleinvolumiger Produktion konzipiert. Durch die Herstellung einer homogenen Temperaturverteilung und mittels einer Heizrampe, die sich durch hohe Wiederholgenauigkeit auszeichnet, sicher die Hot-Plate stabile Prozessergebnisse. Sie eignet sich für Substratgrößen bis zu 200 mm.

Highlights

Substratgrößen bis zu 200 mm (rund) oder 6”x6” (eckig)

Gleichmäßige Temperaturverteilung

Schnelles Erhitzen

Leistungsfähige Schutzschicht auf der Hot-Plate-Oberfläche

Einfach zu bedienende Grafikoberfläche mit Touch-Screen 

Programmierbare Heizrampe (mit spezieller Kontrolle überTouch-Panel)

SUSS MicroTec Developer Hot Plate HP8

Um die branchenweit beste Temperaturverteilung zu erreichen, verlässt sich die HP8 von SÜSS MicroTec nicht auf konventionelle Heizpatronen. Stattdessen werden mehrere Meter lange Heizspiralen innerhalb der Grundplatte auf eine vielfach bewährte Weise arrangiert. Das verhindert die Bildung von besonders heißen oder kalten Bereichen und sichert eine gleichmäßige Temperaturverteilung. Eine spezielle Beschichtung sorgt für eine höhere mechanische und chemische Widerstandsfähigkeit und vereinfacht den Reinigungsprozess.

Die Hot-Plate  wird in drei verschiedenen Gehäusen angeboten (Bench-Mount, Table-Top und Stand-alone). Die Kontrolle erfolgt über ein spezielles Kontrollsystem mit Touch-Screen. Wenn die HP8 mit der Coat- und Develop-Plattform RCD8 kombiniert wird, bietet sich optional die gemeinsame Verwaltung über das gleiche Touch-Screen an. Das Table-Top- und das Bench-Mount-Modell passen in Größe und Aussehen zu SÜSS MicroTecs LabSpin-Serie. Nicht nur das Format und die Steuerungsmöglichkeiten bieten große Flexibilität, sondern auch die vielen verfügbaren Optionen wie Lift-Pins, Proximity-Bake und Stickstoffspülung sind an die täglichen Anforderungen der Laborarbeit angepasst.

Zur Standardausstattung der Hot-Plate gehören Lift-Pins, die einfaches und sicheres Handhaben des Substrates gewährleisten. Die Proximity-Option erlaubt es, den Abstand zwischen Substrat und Hot-Plate im Mikrometerbereich einzustellen, was eine große Bandbreite an Prozessmöglichkeiten bietet. Der Durchfluss der Stickstoffspülung lässt sich manuell anpassen und wird über ein digitales Display angezeigt. Stickstoffspülung und Vakuumansaugung können einzeln für jeden Schritt im Rezepteditor angewählt werden. Der geschlossene, doppelwandige Deckel sorgt für stabile Prozessbedingungen und verhindert, dass der Anwender die  heiße Oberfläche zufällig berührt.

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SÜSS Produktportfolio 990kb
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