Plattform für die Fotomaskenverarbeitung

ASx Serie Fotomasken-Verarbeitungsplattform

Maximieren Sie Ertrag und Qualität: Die ASx-Serie ist die vollautomatische Plattform für die Verarbeitung von Fotomasken für fortschrittliche Bake-, Resist Strip & Clean- und Entwicklungsprozesse auf Wafern von 250 nm bis 65 nm in einem einzigen System.

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Herausragende Leistung, kompaktes Design

Die ASx-Serie kombiniert branchenführende Präzision mit maximaler Zuverlässigkeit und Leistung, um die kritischen Herausforderungen der fehlerfreien Verarbeitung von Masken zu meistern, die mit 248nm und 193nm Lithografie belichtet werden. Und das alles bei überragender Reinigungseffizienz und unübertroffenen Betriebskosten.

Erstklassige Reinigungsleistung

Mit ihrer überragenden Reinigungsleistung beim ersten Durchgang verlängert die ASx-Serie die Lebensdauer der Masken und senkt die Produktionskosten dank industrieerprobter Reinigungstechnologien.

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Branchenführender Fußabdruck

Kompakte Stellfläche: Mit 1200 × 1200 mm ermöglicht die ASx-Serie eine maximale Raumnutzung und niedrigere Betriebskosten - ohne Kompromisse bei der erstklassigen Verarbeitungsleistung.

Modernstes Backen auf dem neuesten Stand der Technik

Die fortschrittliche Bake-Technologie, die bis zum 14-nm-Knoten und darüber hinaus qualifiziert ist, gewährleistet, dass die Fotomasken die anspruchsvollsten Spezifikationen für Lithografieanwendungen der nächsten Generation erfüllen.

Intelligente Automatisierung

Das Cluster-Design mit integriertem Advanced Post-Exposure Bake (AEP), chemischer Filtration, präziser Klimakontrolle und Überwachungsfunktionen gewährleistet hochgradig kontrollierte PEB-Schritte, die für maximale Prozessstabilität, zuverlässige Ergebnisse und hervorragende Maskenqualität sorgen.

Technische Präzision trifft auf hervorragende Fertigungsqualität

Hauptmerkmale der ASx Serie Fotomasken-Verarbeitungsplattform

Die ASx-Serie bietet kompromisslose technische Leistung durch intelligente Temperatursteuerung, automatisierte Prozessoptimierung und defektminimierende Entwicklungstechnologien, die die komplexe Fotomaskenverarbeitung in konsistente, branchenführende Ergebnisse verwandeln.

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25-Zonen-Kochplatten-System

Das intelligente Heizplattensystem ermöglicht eine präzise Temperaturgleichmäßigkeit auf der Oberfläche der Fotomaske während des mittleren Temperaturanstiegs und bei der Zieltemperatur, wodurch ein optimaler Nachbelichtungsprozess und hochwertige Ergebnisse gewährleistet werden.

Automatisierte Prozessoptimierung

Integrierte Algorithmen sorgen für eine automatische Feinabstimmung der Ausheizleistung zwischen 90 und 130 °C und gewährleisten eine präzise Kontrolle des CD-Mittelwerts bis zum Ziel und eine gleichbleibende Maskenqualität.

Geringster Fehler Entwickeln

Das A+ Düsensystem verteilt den Entwickler gleichmäßig über die gesamte Maske, während die aktive Entgasung Mikroblasen verhindert - für minimale Defekte und maximale Ausbeute.

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