MJB4 Mask-Aligner

Die Modernste F&E-Lösung für kleine Substrate und Bruchstücke

Dank seiner einfachen Bedienung und kompakten Größe ist der MJB4 von SÜSS MicroTec das ideale System für Labore und Kleinserienproduktionen. Die kostengünstige Fotolithografie-Lösung setzt Standards, insbesondere bei der Bearbeitung kleiner Substrate und Bruchstücke bis 100 mm. Seine zuverlässige, hochpräzise Justage und seine Fähigkeit zur hochauflösenden Strukturierung im Submikrometer-Bereich machen den MJB4 zu einem Gerät mit einzigartiger Leistungsfähigkeit in seiner Klasse.

Highlights

  • Hohe Auflösung bis 0,5 µm
  • Schnelle und präzise Justage mit Singlefield- oder Split-Field-Mikroskop von SÜSS MicroTec
  • Hoch auflösende Optik speziell für dicke Lackschichten
  • Optionale Ausstattung mit universeller Optik für den schnellen Wechsel zwischen verschiedenen Wellenlängen
  • Nachrüstbar mit UV-Nanoimprint-Lithografie
MJB4 Mask-Aligner

Der MJB4 findet häufig im MEMS- und F&E-Bereich Anwendung. Spezielle Konfigurationen ermöglichen ein optimales Handling auch nicht standardisierter Substrate wie Hybride, HF-Bauteile oder zerbrechlicher III-V-Materialien. Zusätzlich besteht die Möglichkeit, den MJB4 um ein Modul für die UV-Nanoimprint-Lithografie zu erweitern.

Details : Justierung

  • Oberseitenjustierung
  • Infrarotjustierung

Details : Belichtung

  • Soft-Kontakt-Modus
  • Hart-Kontakt-Modus
  • Vakuum-Kontakt-Modus

Details : Optik

  • MO Exposure Optics®
  • HR- und LGO-Optik
  • Beugungsreduzierende Optik
  • UV-LED-Lampenhaus

Details : Automatisierung

  • Keilfehlerausgleichssystem

Belichtung

  • Lab-Simulation-Software

Nanoimprint-Lithographie

  • Imprint-Lithografie

Videos