Manueller Mask Aligner

MJB4 Mask Aligner

Der MJB4 ist das ideale manuelle Mask Aligner für Forschung und Kleinserienproduktion. Das kompakte, benutzerfreundliche und kosteneffiziente System ist mit einer zuverlässigen, hochpräzisen Maskenausrichtung und hochauflösenden Druckfunktion für Substrate und Teile bis zu 100 mm ausgestattet.

Sprechen Sie mit einem Experten

Mit Präzision und Vielseitigkeit die Forschung voranbringen

Der MJB4 kombiniert bewährte Lithografie-Leistung mit Prozessvielfalt für Forschung und Kleinserienproduktion. Das System unterstützt empfindliche Materialien und UV-NIL und ist dank seiner Submikrometer-Auflösung ~~und~~schnellen Substratwechsel eine kosteneffiziente Lösung. ermöglicht die Erforschung neuer Anwendungen mit zuverlässigen Ergebnissen.

Präzision für jeden Prozess

Präzise Ausrichtung und hochwertige Ergebnisse für eine Vielzahl von Anwendungen, flexible Belichtungsmodi, einschließlich weich, hart und Vakuum, kombiniert mit hochauflösenden Optiken und SUSS Mikroskopen liefern Auflösungen von 2 µm bis hinunter zu weniger als 0,5 µm.

Kosteneffizient durch Design

Der MJB4 wurde speziell für Universitäten und kleine Produktionsbetriebe entwickelt und kombiniert ein erschwingliches Preis-/Leistungsverhältnis mit stabiler Leistung. Sein kompaktes Design, die schnelle Einrichtung, Konfigurations-Upgrades und der zuverlässige Betrieb sorgen für eine schnelle Amortisation der Investition und machen das System zu einer kosteneffizienten und flexiblen Wahl für agile F&E-Labore.

Vielseitiger Pionier der Lithografie

Als eines der ersten Mask Aligner setzte die MJB4-Plattform Industriestandards in der Forschung und Kleinserienfertigung. Ausgestattet mit modernster Technologie und mehreren Konfigurationsmodi ist das System nach wie vor das Referenzwerkzeug für kleine Substrate und Teile weltweit.

Bedienerfreundlichkeit und Komfort

Mit einer intuitiven Benutzeroberfläche und einfachen Bedienelementen ist der MJB4 besonders benutzerfreundlich. Die automatisierte Wedge Error Compensation (WEC) und die integrierte Simulationssoftware für lithografische Prozesse vereinfachen die Bedienung, minimieren die Einrichtungszeit und garantieren eine optimale Verarbeitung für beste Ergebnisse.

Hauptmerkmale des MJB4 Mask Aligner

Der MJB4 bietet zuverlässige Lithografie durch MO Exposure Optics®, mehrere Belichtungsmodi und modulare Upgrades. Mit Submikron-Auflösung und UV-NIL-Optionen bietet er eine flexible technische Grundlage für fortgeschrittene F&E und Pilotproduktion.

Ausgezeichnete Lichtgleichmäßigkeit

Mit Mikrolinsenplatten bietet MO Exposure ^Optics® Lichtgleichmäßigkeit über das gesamte Belichtungsfeld und ein größeres Prozessfenster, was zu höheren Erträgen führt. Die telezentrische Beleuchtung entkoppelt das Belichtungslicht von der Lampenquelle und spart so Einrichtungs- und Wartungszeit und sorgt für gleichbleibende Ergebnisse über die gesamte Lebensdauer der Lampe.

Präzise Ausrichtung, große Flexibilität

Das MJB4 ist mit einem hochpräzisen Ausrichttisch ausgestattet, der eine Ausrichtung von oben oder im IR-Bereich ermöglicht, und bietet eine Auswahl an Singlefield- oder Splitfield-Mikroskopen für eine klare Mustererkennung und präzise Ergebnisse. Mit optionalen Upgrades für Nicht-Standard-Substrate oder UV-Nanoimprint-Lithografie ist das System ideal für MEMS, Optoelektronik, Hybride und empfindliche III-V-Materialien.

Anpassungsfähige Werkzeuge

Das MJB4 wächst mit Ihrem Forschungsbedarf: Mit einer umfangreichen Werkzeugbibliothek, die Teile von 5x5 mm bis zu 100 mm großen Wafern in verschiedenen Formen und Dicken bis zu 4 mm bearbeiten kann, bietet das MJB4 maximale Flexibilität. Es sind auch spezielle Werkzeuge für die Bearbeitung von Substraten mit ungewöhnlicher Form und anderen nicht standardisierten Teilen erhältlich.

Downloads

Suchen Sie weitere Details? Bitte klicken Sie unten, um das technische Datenblatt und unsere Produktpräsentation mit ausführlichen Produktinformationen herunterzuladen.

Product Overview Brochure EN

PDF

Entdecken Sie unser Portfolio an Wafer-Bonding-Plattformen

Bleiben Sie auf dem Laufenden: Was gibt es Neues bei SUSS?

Pressemitteilungen, Neuigkeiten aus dem Bereich Investor Relations und mehr: Entdecken Sie unsere neuesten Veröffentlichungen und erfahren Sie, was bei SUSS passiert.

17/11/2025

SUSS stellt auf dem Capital Markets Day ambitionierte Pläne für weiteres Umsatzwachstum und eine nachhaltige Margensteigerung vor

Pressemitteilungen