Hybride Bonding-Lösungen

XBC300 Gen2 D2W/W2W Hybride Klebeplattform

Die XBC300 Gen2 D2W/W2W ist die weltweit erste Hybrid-Bonding-Plattform, die Wafer-to-Wafer (W2W), kollektives Die-to-Wafer (D2W) und sequentielles D2W-Bonding in einem Clustersystem integriert. Sie wurde in Zusammenarbeit mit unserem Partner SET Corporation SA entwickelt und unterstützt Substrate von 200 mm bis 300 mm und ermöglicht die Handhabung von Dies auf Bandrahmenträgern.

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Ihre vielseitige Plattform für das Hybrid-Bonden von Wafern

Der XBC300 Gen2 D2W/W2W eignet sich für alle Hybrid-Bonding-Prozesse und ermöglicht fortschrittliche 3D-Stacking-Anwendungen - von System-on-Chip (SoC) bis hin zu gestapelten ICs (SICs). Er wurde für F&E und Pilotlinien entwickelt und bietet durch seine modulare Prozesstechnologie einen zuverlässigen, skalierbaren Weg zur Großserienfertigung.

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Integrierte In-Situ-Metrologie

Ausgestattet mit einer hochpräzisen, durchsatzoptimierten Messstation, ermöglicht der XBC300 Gen2 D2W/W2W die Inline-Verifizierung der Ausrichtungsgenauigkeit in allen Prozessschritten. Das Messmodul unterstützt die Vollfeld-IR-Overlay-Messung und die IR-Lunkerprüfung mit einer Erkennungsauflösung von >500 µm für die Porengröße.

Vielseitigkeit der Träger: Silizium und Glas

Aufbauend auf der branchenweit bekannten XBC300 Gen2-Plattform erweitert der XBC300 Gen2 D2W/W2W seine Fähigkeiten zur Verarbeitung von Stanzformen auf Bandrahmenträgern und gewährleistet so eine zuverlässige Leistung für zukunftssichere Designs.

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Leistung auf dem neuesten Stand der Technik

Der XBC300 Gen2 D2W/W2W verfügt über den integrierten NEO HB Die Bonder von SET Corporation SA, der eine Ausrichtungsgenauigkeit von ±100 nm für fortschrittliches Die-to-Wafer-Bonding mit Bondkräften von bis zu 300 N bietet.

Kompakter Fußabdruck

Der XBC300 Gen2 D2W/W2W kombiniert W2W- und D2W-Bonding-Fähigkeiten in einer einzigen integrierten Plattform, die im Vergleich zu herkömmlichen Stand-alone-Cluster-Konfigurationen eine deutlich kleinere Reinraumfläche bietet. Seine optimierte Prozessarchitektur reduziert die Gesamtinvestition und die Gesamtbetriebskosten erheblich.

Präzise, anpassbar, zukunftssicher.

Hauptmerkmale des XBC300 Gen2 W2W/D2W Hybrid Bonding System

Ausgestattet mit der innovativen SUSS-Technologie setzt der XC300 Gen 2 W2W/D2W neue Maßstäbe für die moderne Halbleiterfertigung und bietet eine vollständig integrierte Lösung für das Hybridbonden.

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Ausrichtungsgenauigkeit von < 100 nm für W2W-Bonden

Der XBA Bond Aligner erreicht mit der Inter-Substrate Alignment (ISA)-Technologie von SUSS, der integrierten optischen Referenz und der globalen Kalibrierung eine konsistente Ausrichtgenauigkeit im Submikrometerbereich sowohl für transparente als auch für opake Wafer. Er liefert eine Ausrichtungsgenauigkeit von < 100 nm für W2W und erfüllt damit auch zukünftige Anforderungen an die Pitch-Skalierung.

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Die-Abstände bis zu 40 µm

Der XBC300 Gen2 D2W/W2W bietet branchenführende Sauberkeit und Ausrichtungsgenauigkeit für einen Die-to-Wafer-Transfer mit hoher Ausbeute und hohem Durchsatz. Sein innovatives Design ermöglicht ultraniedrige Abstände zwischen den Chips von bis zu 40 µm und gewährleistet eine hohe Chipdichte auf den Zielsubstraten.

Hervorragende Sauberkeit

Wässrige Reinigungsmodule für Vollwafer und Tape-Frames verfügen über verschiedene Dosieroptionen, einschließlich Megasonics, optionaler Rückseitenspülung und N2-unterstützter Schleudertrocknung. Standardkonfigurationen unterstützen verdünnte Chemikalien wie < 2 % NH₄OH oder Zitronensäure mit SC1-basierter organischer Entfernung.

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