HMx-Baureihe

Spezialisierte Reinigung für Fotomasken

Die optimale Lösung für F&E und Kleinserien von anspruchsvollen Substraten: Die HMx-Serie bietet hochwertige Substratbearbeitung und spezialisierte Reinigungsfunktionen für Fotomasken, Optoelektronik, OLED und spezielle Halbleiter-Backend-Anwendungen in einem kleinen, kompakten Gehäuse.

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Entwickelt für empfindliche Substrate

Kompaktes Reinraumdesign und herausragende Flexibilität: Die HMx-Serie vereint hochmoderne Entwicklungs-, Ätz- und Reinigungsfunktionen mit einer umfassenden Substrathandhabung. Die manuelle Beladung mit automatisierten Prozessschritten gewährleistet bewährte Zuverlässigkeit, während moderne Steuerungen und fortschrittliche Reinigungstechniken maximale Sicherheit für empfindliche Substrate bieten.

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Sicheres Chemikalienmanagement

Maximale Bediener- und Prozesssicherheit: Die HMx-Serie umfasst sichere Chemikalienlager, doppelte Dosiersysteme und ergonomische Ladebereiche für eine sichere Handhabung bei jedem Schritt.

Erstklassige Reinigungsleistung

Außergewöhnliche Ausbeute beim ersten Durchgang: Mehrere integrierte hochmoderne Reinigungstechniken bieten maximale Sicherheit und Schutz für empfindliche Substrate und minimieren kostspielige Nacharbeiten.

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Ideale Reinraum-Fläche

Passt in jede Umgebung: Mit einer Stellfläche von nur 960 × 1120 mm für den Unterschrank und 300 × 1070 mm für den Medienschrank bietet die HMx-Serie leistungsstarke Leistung in einem kompakten Design.

Industriekonforme Verarbeitung

Die HMx-Serie wurde für eine nahtlose Integration entwickelt und erfüllt strenge Industriestandards. Sie ist SEMI S2, S8 und S13 konform, CE-gekennzeichnet und für eine DIN EN ISO 14644 Klasse 2 kontrollierte Umgebung gebaut. Mit einer standardmäßigen SECS/GEM 200/300-mm-Schnittstelle ist sie sofort für die Fabrikautomatisierung bereit.

Maßgeschneidert auf die Bedürfnisse des Halbleitermarktes

Hauptmerkmale der HMx Serie

Mit innovativen Dosier- und Reinigungstechnologien liefert die HMx-Serie gleichbleibende, fehlerfreie Ergebnisse. Das modulare Design unterstützt mehrere Prozessoptionen und ermöglicht die Anpassung an unterschiedliche Anwendungen und strenge Gleichmäßigkeitsanforderungen sowohl für Pilotprojekte als auch für die Kleinserienproduktion.

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Geringster Fehler Entwickeln

Das A+-Düsensystem verteilt den Entwickler gleichmäßig über die gesamte Maske und sorgt so für eine schnelle und gleichmäßige Oberflächenbenetzung und einen gleichmäßigen Medienaustausch - für minimale Fehler und optimale Qualität.

ASONIC-Technik®

Akustisches Streaming für hervorragende Entwicklung: Durch den Einsatz von MegaSonic-Energie zur Anregung der Oberfläche erhöht die ASONIC-Technologie® den Austausch von Entwicklermedien für eine gleichmäßige Ausnutzung und verbesserte CD-Gleichmäßigkeit.

Neueste Reinigungstechnologien

Zweifacher Megaschall und Hochdruck Fulljet, Bürstenreinigung sowie in-situ SC1/SPM, UV-Trockenreinigung, ultrareine DI-Prozesse, Rückseitenspülung und ESD-sichere Optionen: Die HMx-Serie bietet hochentwickelte Reinigungstechnologien, die den modernen Reinraumanforderungen entsprechen.

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