LabSpin Serie Spin Coater & Entwickler

Erzeugen Sie kleine Substrate für Experimente im Anfangsstadium oder Wafer in voller Größe für fortgeschrittene F&E: LabSpin6 unterstützt runde Substrate bis zu 150 mm und quadratische bis zu 100×100 mm, während LabSpin8 diesen Bereich auf 200 mm runde oder 150×150 mm quadratische Substrate erweitert. Dank dieser Flexibilität können Sie eine Vielzahl von Prozessen auf einer einzigen Plattform erforschen.

Die LabSpin-Serie ist mit vielen verschiedenen Spannfuttern ausgestattet, die sich an eine Vielzahl von Substraten anpassen lassen, sogar an Fragmente und Sonderformen. Das bedeutet weniger Kompromisse, weniger Einschränkungen und zuverlässigere Ergebnisse bei verschiedenen Anwendungen.

Vom einfachen Resist-Dosiersystem bis hin zum vollautomatischen Dosieren und Entfernen von Randwülsten (EBR) bietet Ihnen die LabSpin-Serie genau die Funktionalität, die Ihr Prozess erfordert. Sie können je nach Bedarf Funktionen hinzufügen oder entfernen und so sicherstellen, dass Sie stets ein Gleichgewicht zwischen Kosteneffizienz und Prozessfähigkeit finden.

Konfigurieren Sie Ihr perfektes Puddle-Entwicklungssetup mit der flexiblen Plattform von LabSpin. Wählen Sie aus Optionen für Entwicklerdispensierung, DI-Wasser-Spülung und Stickstofftrocknung, um genau den Prozess zu erstellen, den Sie benötigen, und passen Sie ihn mit einer zusätzlichen erweiterten Deckplatte noch weiter an.

Flexible Einrichtung für jede Umgebung: LabSpin ist als Tischgerät erhältlich oder lässt sich als integrierte Plattform nahtlos in eine Nassbank, eine Handschuhbox oder einen SUSS LabCluster integrieren. Die kompakte Stellfläche spart wertvollen Platz im Reinraum und bietet gleichzeitig maximale Flexibilität bei der Installation.