RCD8 Belacker & Entwickler

Belackungs- und Entwicklungsplattform

Die halbautomatische Belacker- und Entwicklerplattform RCD8 ist hervorragend für den Einsatz sowohl in Forschung und Entwicklung als auch in der Kleinserienproduktion geeignet und kann für jede Anwendung spezifisch konfiguriert werden.

In das Design der halbautomatischen Belacker- und Entwickler-Plattform RCD8 ist das Know-How von SÜSS MicroTec aus der Volumenproduktion eingeflossen. Die Anlage ist mit den gleichen hochwertigen Komponenten wie die SÜSS MicroTec Produktionsanlagen ausgestattet. Dadurch überzeugt die RCD8 Belacker- und Entwicklerplattform durch höchste Applikationsqualität, durch eine hohe Zuverlässigkeit und hohe Wiederholgenauigkeit. Applikationsspezifische Substrataufnahmen ermöglichen es, vielfältige Materialien und Formen von Substraten zu prozessieren.

Highlights

  • Maximale Anwendungsvielfalt und Applikationsqualität
  • Maßgeschneiderte Konfiguration
  • Ergonomische und sichere Bedienbarkeit
  • Hohe Verfügbarkeit und Prozesssicherheit
RCD8 Belacker & Entwickler

In der Vollversion ist der RCD8 mit der von SÜSS MicroTec entwickelten GYRSET®-Technologie und mit bis zu vier Dispenssystemen ausgestattet. Manuelle Prozessierung in einer Open-Bowl ist in der Version als einfacher Belacker möglich. In der Entwicklervariante kann die RCD8 als Puddle-Entwickler oder Sprühentwickler konfiguriert werden.

Exakte Prozessführung für höchste Ergebnisqualität

Die RCD8 kann mit zahlreichen bewährten Dispenssystemen ausgestattet werden, um Fotolacke mit einer Viskosität von <1 cP bis hin zu 55000 cP verarbeiten zu können. Die RCD8 bietet sowohl kartuschenbasierte als auch automatische Dispenssysteme. Darüber hinaus sind Randentlackung, Rückseitenreinigung und automatische Reinigung der Düsen bzw. der Prozesskammer möglich. Bis zu vier Dispenssysteme werden auf einem programmierbaren Dispensarm zusammengefasst und können rezeptgesteuert exakt über dem Substrat positioniert werden.

Die maximale Drehgeschwindigkeit des Chucks liegt bei 10.000 rpm (bis zu 12.000 rpm auf Anfrage) mit einer Beschleunigung von 7.000 rpm/sec. Der Lackauftrag erfolgt automatisch über eine druckbeaufschlagte Kartusche oder eine mechanische Pumpe. Optionale Dosiersysteme wie zum Beispiel zur Rückseitenreinigung (back-side rinse) und Randentlackung (edge bead removal) eröffnen weitere Anwendungsbereiche. Durch den Einsatz eines motorisierten Kartuschendispensesystems bei Tests oder kleineren Stückzahlen lässt sich erheblich an Material sparen und gleichzeitig höchste Ergebnisqualität erzielen.

Für einfaches Substrathandling sind Coater und Developer mit einem manuellen Zentriersystem ausgestattet. Auf Wunsch kann das Substrathandling durch zusätzliche Lift-Pins in der Substrataufnahme verbessert werden. Der große Bildschirm mit Touch-Funktion und die bewährte MMC-Software aus der Volumenproduktion ermöglichen dem Bediener stets die volle Kontrolle und direkte Überwachung seines Prozesses. Mit dem intuitiven Editor können Rezepte flexibel gestaltet und gemanagt werden. So lassen sich beispielsweise auch bei Bedarf Rezeptschleifen problemlos programmieren. Die in der RCD8 entwickelten Rezepte können auf die vollautomatischen Belacker-Entwickleranlagen der ACS200 Plattform übertragen werden.

Der Anwender im Fokus: Schutz und einfache Bedienung

Die hohen Sicherheitsstandards der Industrie finden auch bei der RCD8 Anwendung. Verschiedene moderne Sensortechnologien sowie schließbare Hauben sorgen dafür, dass der Operator bestmöglich geschützt ist. Wenn die Sicherheitshaube geöffnet ist, können Flüssigkeiten während des Prozesses manuell hinzugefügt werden.

Wann immer Veränderungen und Anpassungen nötig sind, kann die vielseitige Plattform mit verschiedenen Zusatzfunktionen ausgestattet werden, um zukünftige Anforderungen der Kunden optimal zu erfüllen.

Die RCD8 lässt sich außerdem in SÜSS MicroTecs LabCluster integrieren, das zusätzliche Funktionalitäten wie Baking oder Vapor-Priming und eine Reihe von Konfigurationsmöglichkeiten bereitstellt.

Details : Details

  • Rotationsbeschichtung
  • Puddle-Entwicklung

Optionen

  • GYRSET®

Publikationen