ACS200 Gen3涂胶与显影机
产业变革 - 结合Gamma和ACS200Plus平台的最佳优点
SUSS的 ACS200 Gen3平台既包含大量的创新设计，又结合了Gamma和ACS200Plus平台的最佳优点。最多能够配备4个涂胶显影模块和19个冷热板，非常适合大规模生产。该平台具有无与伦比的模块配置灵活性，其技术不仅可以满足先进封装、MEMS和LED等应用要求，同时也适合研发和大规模生产的需求。
亮点
- 无与伦比的配置灵活性
- 服务于先进封装、MEMS和LED市场的HVM和研发工作
- 市场上任何200毫米涂布机/显影机中最高的工艺模块数
多功能的底架提供了多种配置的可能性，例如，最多4个湿法工艺模块（涂布机和/或显影机），最多19个印版，或者2个湿法工艺模块和2个喷淋涂布机模块，最多13个印版。
ACS200 Gen3可以在每个湿法工艺模块上堆叠最多3个印版，在第5个模块上堆叠最多7个印版，因此ACS200 Gen3可以在同类产品中实现最大的模块数。
不同的I/O系统可满足任何需求。2倍的I/O可满足研发要求，而新设计的自动装载盒站可实现连续操作，无需停止系统进行盒式交换。
新颖的涂布碗提供最先进的开放式涂布碗和专利的GYRSET®封闭式涂布技术。碗的设计提供了使用一次性工艺碗进行操作的可能性，而不影响流动动力学或排气流量。它简化了对不方便或不寻常的材料的操作，因为易于清洗碗和减少维护时间。ACS200 Gen3可以在每个涂布机模块的两个不同的分配臂上分离溶剂和抗蚀剂生产线，因此，ACS200 Gen3遵循了提供卓越产量的路径。
对于显影应用，可以配置一个水基或溶剂显影模块。有多种不同的喷嘴类型可供选择，以满足任何工艺要求。
与SUSS曝光系统的直接连接增加了产量，因为对于一个完整的光刻工艺流程来说，不需要操作员的互动。
可选的过滤风扇装置和工具的温度/湿度控制使工艺稳定，可重复性强，最终实现高产量。
