光掩模设备

通过最高的掩模完整性而引人注目

每个新技术节点的引入,都需要开发创新的光掩模工艺。SUSS MicroTec与客户、技术伙伴和OEM厂商密切合作,充分理解客户在掩模车间、晶圆厂的要求,提供确保掩模完整性最高水平的解决方案。

SUSS MicroTec已建立的成套光掩模工艺设备,覆盖了全部技术节点,包括从剥离、清洗到曝光后烘烤与显影工艺的1倍半间距下一代光刻技术。

技术

  • 光掩模清洗
  • 表面准备
  • 表面净化与保存
  • 湿法清洗