MA8 Gen5 掩模对准机

用于研究、中等规模生产到量产的紧凑型对准机平台

MA8 Gen5代表了SUSS MicroTec最新一代半自动的掩模和键合对准机。新平台为标准、先进和高端的工艺引入了改进的压印工艺功能。

MA8 Gen5具有增强的人体工程学和用户友好设计,成本效益高,占地面积小,是用于研究、中等规模生产到量产的完美工具。

SUSS MicroTec的MA8 Gen5,正在为MEMS和NEMS、3D集成和化合物半导体市场的全场光刻技术树立新的基准;特别是在LED、MEMS/NEMS、微光学、增强现实和光电子传感器等需要使用著名的SMILE技术的大量压印应用领域。它还能够处理诸如键合对准和熔融键合等工艺。

亮点

  • 增强的SUSS调平系统
  • 涵盖微米到纳米压印的一站式工具
  • 优异的工艺结果
  • 用户友好
  • 拥有成本低
  • 占地面积小,增强的人机工程学特性
MA8 Gen5 掩模对准机

通过精确获得理想的工艺结果

MA8 Gen5的高度自动化,有助于优异的工艺结果。恒定剂量模式、曝光时间的自动控制单元、自动对准等功能,都有助于优化工艺参数。此外,配备了高档的MO曝光光学系统,MA8 Gen5提供了理想的曝光条件,从而获得了一流的结果。复杂的机械工作确保了高的调整精度:顶、底部显微镜单元(TSA和BSA)的特殊设计,消除了TSA显微镜的长行程、干扰性振动。它支持多种微/纳米结构压印工艺。稍作调整就能实现晶圆-晶圆对准,以及轻松的熔融键合。

操作舒适度高

高度直观的工艺菜单编辑器、复杂的数据记录、分配用户权限等功能,简化了用户的工作,同时最大限度地减少了操作者的干预。MA Gen5平台还利用了高级数字显微镜和摄像机,由于增强了图像质量、扩展了显示器上的视野,大大简化了对准工艺。

工作安全与环境保护

MA8 Gen5配备了节能的LED光源、复杂的曝光光学器件,适用于所有光刻工艺。此外,还有一个专用的UV-LED泛光曝光单元,可用于压印应用。UV-LED光源不仅降低了操作与维护成本,而且还提高了工作安全性和环保性。这消除了昂贵、危险的汞灯废物处理。该设备提供了进一步的安全功能,如紫外辐射保护、安全联锁和陷阱保护,从而满足了严格的安全要求。但也可以选择配置汞灯源。

性价比

凭借其紧凑的设计,MA8 Gen5在减少占地面积的情况下提供了多种工艺,节省了昂贵的洁净室空间,这也是拥有成本具有吸引力的一个主要因素。由于工作元件和可更换部件的可及性,以及使用了LED光源和著名的SUSS MO曝光光学器件,维护工作得以减少。如果出现错误或故障,可由SUSS MicroTec的服务人员远程访问该设备,从而能够快速、经济地解决问题。

详细情况 : 详细情況 : 对准

  • 顶面对准
  • 背面对准
  • 红外对准
  • DirectAlign®

详细情况 : 详细情況 : 曝光

  • 阴影工艺(接近式光刻)
  • 软接触曝光
  • 硬接触曝光
  • 真空接触曝光

详细情况 : 详细情況 : 曝光光学器件

  • MO Exposure Optics®
  • 抗衍射曝光系统

详细情况 : 详细情況 : 自动化

  • 自动对准
  • SUSS调平系统

详细情况

    曝光

    • 实验室模拟软件
    • 掩模板优化
    • UV LED 光源

    纳米压印光刻技术

    • 压印光刻
    • SMILE:微米级和纳米压印
    • 印模制备

    键合

    • 紫外键合
    • 对准键合
    • 热键合