LabSpin Series Spin Coater & Developer

Laboratory Spin Coat and Develop Solution for Wafers up to 150 and 200mm

SUSS MicroTec‘s LabSpin platform represents the next generation of manual spin coater and developer systems that have been developed specifically for laboratory and R&D. Designed for a variety of  photolithography chemicals, LabSpin systems provide uniform, precise and repeatable spin coating results on the wafer through its advanced process chamber design.

Highlights

Large process variety including spin coating and puddle developing

Edge bead removal

Dispense positioning is flexibly adjustable, from central dispensing to edge coating

The LabSpin is available in two versions, as a table-top unit and as a built-in unit. Built-in platforms are designed for integration into a wet bench, a glove box or are used in the SUSS LabCluster. LabSpin6 is suitable for round substrates up to 150 mm diameter or square substrates up to 100x100mm. LabSpin8 is suitable for round substrates up to 200 mm diameter or square substrates up to 150x150mm. With a wide range of substrate holders, even fragments and special shapes can be processed without any problems. The LabSpin platform is characterized by a compact and space-saving design and requires little clean room space.

The large variety of LabSpin options allows a very wide range of applications. Coatings can be applied manually with syringes, semi-automatically with cartridges or with up to two fully automatic dispensing systems. In addition to edge coating, edge bead removal and puddle development, further options are available.

Details: Coating & Developing

スピンコートでは、回転させた基板上に、レジストを用いて均等に薄膜を構成します。レジスト (感光性レジストなど) は多くの場合、ウエハの中心に供給されます。その後の加速、最終回転数、各工程の継続時間に応じて、遠心力でレジストの一部が除去され、膜厚が均質になり ます。形成される薄膜の厚さは、プロセスの各種パラメータだけでなく、レジストまたはフォトレジストの物理的特性によっても左右されます。

SUSS MicroTecの特許取得済みGYRSETメソッドには大きなメリットがあります。GYRSETメソッドでは、コーティング中にプロセスチャンバーも同 時回転することで、回転する基板上の気流の乱れを効率良く抑えます。密閉されたチャンバーの中で、空気はレジストによって通常よりも早い段階で飽和状態と なるため、レジストはより長い時間をかけて乾燥され、基板上に均等に分配されます。それによって、材料の消費量を大幅に削減することができます。

ただし、スピンコートは高い起伏のパターンには適していません。

Available for:

Automated Coater and Developer

Semi-Automated Coater and Developer

このプロセスでは、露光された基板に所定量の現像液を塗布し、適度に回転させて配分します。その際、現像液の表面張力によって、基板上に現像液が溜まった状態 (英語で「Puddle」) になります。現像時間が経過した後、現像液は高速回転によりウエハから飛ばされます。そして、脱イオン水でウエハを洗浄し、再び高速回転によって乾燥します。この手法のメリットは、現像液が少量しか必要でないこと、そして良好な現像結果が得られることです。
パドル現像方式は、大量の現像済みフォトレジストを取り除く場合や、起伏が高いパターンによって現像液の入れ替えが妨げられる場合など、現像液の飽和時には適していません。このような場合には、多段式パドル現像方式またはスプレー現像方式が使用されます。
 

特色與優點

  • M化学品用量低

Available for:

Automated Coater and Developer

Semi-Automated Coater and Developer

LabSpin Configurator

What are your needs?

Beside some overall requirements all labs have different needs which arise from their specialized topics. This is why SUSS MicroTecs LabSpin tools are well designed and rock solid built basic coaters but can be equipped with various carefully selected options.

This configurator will guide you in a few easy steps to your perfect new lab tool.

Click here to configure your LabSpin

Downloads
Datasheet LabSpin6 & LabSpin8 350kb
SUSS Product Portfolio 2243kb
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