LabSpin Series Spin Coater & Developer

Laboratory Spin Coat and Develop Solution for Wafers up to 150 and 200mm

SUSS MicroTec‘s LabSpin platform represents the next generation of manual spin coater and developer systems that have been developed specifically for laboratory and R&D. Designed for a variety of  photolithography chemicals, LabSpin systems provide uniform, precise and repeatable spin coating results on the wafer through its advanced cup design.

Highlights

Large process variety including spin coating and puddle developing

Edge bead removal

Adjustable dispense position allows for center dispense and edge coating

LabSpin systems are offered in two versions for up to 150 or 200mm wafers, either as table-top (TT) unit or for integration into a wet bench (BM). LabSpin spin coaters can process a wide range of substrates starting from pieces up to 150/200mm round wafers 100x100mm or 150x150mm squares.

The small footprint requires only minimum space. A wide range of LabSpin options are available designed to suit the needs of any application. LabSpin systems offer spin coating optional with syringe or automatic dispense system, edge coating, edge bead removal or puddle development.

スピンコートでは、回転させた基板上に、レジストを用いて均等に薄膜を構成します。レジスト (感光性レジストなど) は多くの場合、ウエハの中心に供給されます。その後の加速、最終回転数、各工程の継続時間に応じて、遠心力でレジストの一部が除去され、膜厚が均質になり ます。形成される薄膜の厚さは、プロセスの各種パラメータだけでなく、レジストまたはフォトレジストの物理的特性によっても左右されます。

SUSS MicroTecの特許取得済みGYRSETメソッドには大きなメリットがあります。GYRSETメソッドでは、コーティング中にプロセスチャンバーも同 時回転することで、回転する基板上の気流の乱れを効率良く抑えます。密閉されたチャンバーの中で、空気はレジストによって通常よりも早い段階で飽和状態と なるため、レジストはより長い時間をかけて乾燥され、基板上に均等に分配されます。それによって、材料の消費量を大幅に削減することができます。

ただし、スピンコートは高い起伏のパターンには適していません。

Available for:

Automated Coater and Developer

Semi-Automated Coater and Developer

このプロセスでは、露光された基板に所定量の現像液を塗布し、適度に回転させて配分します。その際、現像液の表面張力によって、基板上に現像液が溜まった状態 (英語で「Puddle」) になります。現像時間が経過した後、現像液は高速回転によりウエハから飛ばされます。そして、脱イオン水でウエハを洗浄し、再び高速回転によって乾燥します。この手法のメリットは、現像液が少量しか必要でないこと、そして良好な現像結果が得られることです。
パドル現像方式は、大量の現像済みフォトレジストを取り除く場合や、起伏が高いパターンによって現像液の入れ替えが妨げられる場合など、現像液の飽和時には適していません。このような場合には、多段式パドル現像方式またはスプレー現像方式が使用されます。
 

特色與優點

  • M化学品用量低

Available for:

Automated Coater and Developer

Semi-Automated Coater and Developer

在噴霧式顯影期間曝光的基板會以低速旋轉。曝光區域會不斷覆蓋以剛噴灑上的顯影劑以免飽和。相對於浸置式顯影,噴霧式顯影具有可用於厚膜光阻以及進行大範圍顯影的優點。之後使用去離子水沖洗並持續乾燥旋轉便完成整個顯影過程。

特色與優點

  • 即使於厚膜光阻下亦能對整個晶圓均勻顯影。

Available for:

Automated Coater and Developer

Semi-Automated Coater and Developer

LabSpin Configurator

What are your needs?

Beside some overall requirements all labs have different needs which arise from their specialized topics. This is why SUSS MicroTecs LabSpin tools are well designed and rock solid built basic coaters but can be equipped with various carefully selected options.

This configurator will guide you in a few easy steps to your perfect new lab tool.

Click here to configure your LabSpin

Downloads
Datasheet LabSpin6 & LabSpin8 350kb
SUSS Product Porfolio 990kb
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