MA8 Gen5マスクアライナー
研究開発、および中規模から大規模生産向けのコンパクトなアライナープラットフォーム
MA8 Gen5は、SUSS MicroTecの半自動マスクおよびボンドアライナーの最新世代です。この新しいプラットフォームには、標準、高度、およびハイエンドのプロセス向けに改善されたインプリント処理機能が導入されています。
MA8 Gen5は、強化された、人間工学的で使いやすいデザイン、コスト効率の向上、および設置面積の削減を提供し、研究開発および中規模から大規模生産での使用に最適な装置です。
SUSS MicroTecのMA8 Gen5は、MEMSおよび NEMS、3D集積、化合物半導体市場向けのフルフィールドリソグラフィ、特に LED、MEMS/NEMS、マイクロオプティクス、拡張現実の分野における多種多様なインプリントアプリケーションの新しい基準を打ち立てています。有名なSMILEテクノロジーを使用した光電子センサー。ボンド整列、融着などの加工にも対応可能です。
ハイライト
- 強化されたSUSSレベリングシステム
- マイクロからナノまでのインプリントを1つの装置でカバー
- 優れたプロセス結果
- ユーザーフレンドリー
- 低所有コスト
- 小さな占有面積と強化された人間工学
高精度による理想的なプロセス結果
MA8 Gen5の高度な自動化により、優れたプロセス結果が得られます。一定用量モード、露光時間の自動制御ユニット、自動アライメントなどの機能はすべて、プロセスパラメーターの最適化に役立ちます。さらに、ハイグレードなMO Exposure Opticsシステムを搭載したMA8 Gen5は、理想的な露光条件を提供し、トップクラスの結果を実現します。洗練された機械的操作により、高い調整精度が保証されます。上部および下部の顕微鏡ユニット (TSAおよびBSA) の特別な設計により、TSA顕微鏡の長い移動と邪魔な振動が排除されます。マイクロおよびナノ構造の複数のインプリントプロセスをサポートしています。少し調整するだけで、ウェハー間の位置合わせと簡単な融着が可能になります。
高い操作快適性
非常に直感的なレシピエディター、洗練されたデータロギング、ユーザー権限の割り当てなどの機能により、ユーザーの作業が簡素化されると同時に、オペレーターの介入の必要性が最小限に抑えられます。MA5 Gen5プラットフォームは、高品質のデジタルマイクロスコープとカメラも使用しています。これにより、画質が向上し、モニターの視野が拡大するため、アライメントプロセスが大幅に簡素化されます。
労働安全と環境保護
MA８ Gen5には、エネルギー効率の高いLED光源と、すべてのリソグラフィプロセス用の高度な露光光学系が装備されています。さらに、このUV-LED光源はインプリント用途にも使用できます。UV-LED光源は、運用とメンテナンスのコストを削減するだけでなく、作業の安全性と環境保護も向上させます。これにより、水銀ランプの高価で有害な廃棄処分が不要になります。この装置は、UV放射保護、安全インターロック、トラップ保護などの追加のセキュリティ機能を提供し、厳格な安全要件を満たします。オプションで水銀光源を用いる構成も可能です。
高い費用対効果率
コンパクトな設計のMA8 Gen5は、設置面積が小さいにもかかわらず、さまざまなプロセスで利用可能です。これは、魅力的な所有コストの主な要因であり、コストのかかるクリーンルームスペースの節約に役立ちます。操作部品や交換可能な部品へのアクセスのしやすさ、およびLED光源と定評のあるSUSS MO露光光学系の使用により、メンテナンスの手間が軽減されます。故障や障害が発生した場合、SUSS MicroTecのサービススタッフがリモートで装置にアクセスできるため、問題を迅速かつ費用対効果の高い方法で解決できます。