ACS200 Gen3 塗布機和顯影劑
將專業知識與創新相結合
SUSS ACS200 Gen3 平臺是創新和經過生產驗證的元件完美結合的成功結果。它最多可容納 4 個濕法工藝模組和最多 19 個板，完全適合大批量生產 （HVM） 的需求。模組和技術無與倫比的配置靈活性不僅滿足了先進封裝、MEMS和LED市場的要求，還彌合了研發和HVM之間的差距。
強調
- 無與倫比的配置靈活性
- 服務於先進封裝、MEMS和LED市場的HVM和研發
- 市場上任何 200 mm 塗布機/顯影機中工藝模組數量最多
多功能底架提供多種配置可能性，例如多達 4 個濕法工藝模組（塗布機和/或顯影機）和多達 19 個板，或 2 個濕法工藝模組和 2 個噴塗機模組，最多 13 個板。
ACS200 Gen3 可以在每個濕法工藝模組上堆疊多達 3 個板，在第 5 個模組上堆疊多達 7 個板，因此在同類產品中允許最大的模塊數量。
不同的 I/O 系統可滿足任何需求。2x I/O滿足研發要求，而新設計的自動載入盒站可實現連續運行，而無需停止系統進行盒式磁帶更換。
新型塗布機轉鼓提供最先進的開放式轉鼓塗層和獲得專利的GYRSET®封閉蓋塗層技術。轉鼓設計提供了使用一次性工藝轉鼓進行操作的可能性，而不會影響流動動力學或排氣流量。由於易於清潔轉鼓並減少了維護時間，因此簡化了不方便或不尋常材料的操作。ACS200 Gen3 可以在每個塗布機模組的 2 個不同的點膠臂上分離溶劑和抗蝕劑線，因此遵循提供出色產量的道路。
對於開發應用，可以配置水性或溶劑顯影模組。提供多種不同的噴嘴類型，以滿足任何工藝要求。
與SUSS曝光系統的直接連接提高了產量，因為完整的光刻工藝流程不需要操作員干預。
可選的過濾風扇單元和工具的溫度/濕度控制可實現工藝穩定性、可重複性，並最終實現高產量。
