投影光刻儀

SUSS MicroTec 公司的光罩對準組合,以其高對準精度和精密的曝光技術,輔以獨創的投影光刻解決方案:DSC 光刻儀平台結合了全場光刻與投影光刻成像性能的所有優點,從而提供一個極具成本效益的替代方案,以取代步進投影。配備全視域光罩和寬帶投影鏡頭,以單一連續掃描模式投影至載具。

該平台適用於先進封裝(特別是晶圓級晶片尺寸封裝和倒裝芯片封裝)、3D 整合、微機電系統和顯示器。

 

全自動

DSC300 Gen2 Projection Scanner

High Performance Projection Scanner for 300 mm Wafers

 

半自動

DSC500 Projection Scanner

For Rigid & Flexible Displays, Advanced Substrates and 450 mm Wafers

 

 

處理技術

投影曝光同樣先將光罩對準晶圓,接著透過光罩和晶圓間的光源將光罩上的圖像投影至晶圓上。通常一次只有晶圓的一部分曝光。透過一步一步重複(步進重 複 - "Step and Repeat")步驟或連續性的方式(掃描 - "scan")將整片晶圓曝光。微影技術的種類和特性是以其解析度、精準度,以及曝光的效能來區分。

SUSS MicroTec 的投影式掃描技術結合了全晶圓對準曝光技術及傳統投影技術的優點於一身,成為光罩對準曝光機和傳統步進式曝光機以外的另一選擇。投影式掃描曝光機先將晶圓 對準含全晶圓圖像的光罩,並透過掃描程序完成光罩圖像的投影。相較於步進式曝光機,掃描式曝光機的產出高、成本低,且解析度可達 3µm。 
投影式掃描曝光在需要高解析度的製程、晶圓表面結構有明顯高低差以及厚膜光阻製程時特別能顯出其優點。 

特色與優點

  • 經濟的微影處理解決方案、高解析度可達 3µm
  • 於厚膜光阻製程可產出更陡峭的側壁角度

Available for:

Automated Projection Scanner

Semiautomated Projection Scanner

 

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