AS8 詳細情況 下载 技術發表

AS8

適用於高表面崎嶇的手動噴霧式光阻塗佈機
SUSS所開發的新型AltaSpray塗佈技術，使用一種能夠在不同的3D微結構上沈積高解析度光阻膜的創新光阻沈積方法，其可以確保在不同的結構，如90°的角落、KOH蝕刻洞、V形溝槽或透鏡上維持一致性的等角塗佈。

AS8光阻塗佈機可提供所有一般的實驗室與試產需求。它是一台適用於從幾微米到高達600微米或更高表面崎嶇的3D微結構製造上的理想設備。

SUSS AS8光阻塗佈機也能夠運用在量產應用上

強調

  • 跨越大起伏形貌的圖案化賦能技術
  • 頂部邊緣覆蓋的保形塗佈，且能避免溝槽中堆膠。
  • 專利的噴霧設計，可實現製程穩定性與重複性的優化
  • 基板尺寸最大直徑為200 mm，方形基板最大邊長為 6"
  • 最多可有2個獨立的噴霧噴塗系統，以避免交叉污染
  • 帶有MMC控制器軟體的觸控式螢幕
  • 全部製程參數可在製程功能表中程式設計
AS8

詳細情況 : 塗佈

  • 噴塗

噴塗是通過噴嘴將溶液噴塗到晶圓上的應用。噴嘴在晶片上的行進路徑經過了優化，以確保在基板上均勻地塗布。噴塗使用的溶液通常具有很低的粘度，以確保形成精細的液滴。

噴塗確保了即便是大起伏表面的基板上也能形成均勻的塗層，使其成為此類結構塗佈的首選技術。使用噴塗技術，即便是方形基板也易於塗佈。

性能與優點

  • 即便大起伏的表面也能均勻塗佈

可以用來:

自动涂胶机与显影机
半自動塗佈機