MJB4掩模對準器

4吋手動光罩對準曝光機

SUSS公司新發表的MJB4是高度受歡迎的手動光罩對準曝光機MJB3的次世代版本。其非常適合作為實驗室與小系列生產之理想的經濟型設備。而在其接觸式曝光模式中,此設備能夠達到的0.5µm解析度,這在任何其它類似的機台上是非常卓越的效能。

強調

  • 具有轉印特性解析度能力達0.5µm的高解析度手動光罩對準曝光機
  • 可處理最大至4吋(晶圓),4吋x4吋(基板)的晶圓與基板
  • 適用於小片、III-V族材料、厚基板、混合式與HF元件等特殊基板的真空吸盤
  • 高精準度的X、Y、Q對準平台座,以及顯微鏡控制器
  • 高強度的光學設定,可適用於高達90mW/cm²的不同UV曝光波長
MJB4掩模對準器

此機台已被廣泛運用在MEMS與光電子應用上。特別是它可以架構成能夠處理非標準型的基板,例如混合型、高頻元件或脆弱的III-V族材料,如GaAs或InP。此設備亦能與SUSS的單視域或分視域顯微鏡搭配,以獲得快速且高精準度的對準效能。

詳細情況 : 對準

  • 頂面對準(TSA)
  • 紅外線對準 (IR)

詳細情況 : 曝光

  • 軟接觸曝光
  • 硬接觸暴露
  • 真空接觸曝光

詳細情況 : 高品質微光學產品

  • MO Exposure Optics®
  • 心率和LGO光學
  • 消衍射光學器件
  • UV LED光源

詳細情況 : 自動化

  • 楔形誤差補償(WEC)

曝光

  • 實驗室類比軟體

奈米壓印技術

  • 壓印曝光

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