MA8 Gen5 掩模對準器

用於研究和中大規模生產的緊湊型對準器平台

MA8 Gen5 代表了 SUSS MicroTec 最新一代的半自動掩模和鍵合對準器。 新平台為標準、高級和高端流程引入了改進的壓印處理功能。

MA8 Gen5 提供增強的人體工程學和用戶友好的設計、成本效益和減少的佔地面積,是用於研究和大中型生產的完美工具。

SUSS MicroTec 的 MA8 Gen5 正在為 MEMS 和 NEMS、3D 集成和化合物半導體市場的全場光刻設定新的基準,特別是在 LED、MEMS/NEMS、微光學、增強現實領域的各種壓印應用以及使用著名的 SMILE 技術的光電傳感器。 它還能夠處理鍵合對準和熔合鍵合等工藝。

強調

  • 增強型 SUSS 調平系統
  • 一種涵蓋微米到納米壓印的工具
  • 傑出的過程結果
  • 用戶友好性
  • 擁有成本低
  • 佔地面積小,符合人體工程學
MA8 Gen5 掩模對準器

通過精確獲得理想的過程結果

MA8 Gen5 的高度自動化可實現出色的工藝結果。恆定劑量模式、曝光時間自動控制單元和自動校準等功能都有助於優化工藝參數。此外,配備高級 MO 曝光光學系統,MA8 Gen5 提供理想的曝光條件,從而獲得一流的效果。精密的機械工作確保了高調整精度:頂部和底部顯微鏡單元(TSA 和 BSA)的特殊設計消除了 TSA 顯微鏡的長行程以及乾擾振動。它支持多種微結構和納米結構的壓印工藝。只需稍作調整,即可實現晶圓與晶圓之間的對準以及輕鬆的熔接。

高操作舒適度

高度直觀的配方編輯器、複雜的數據記錄和分配用戶權限等功能簡化了用戶的工作,同時最大限度地減少了操作員干預的需要。 MA Gen5 平台還使用了高級數碼顯微鏡和相機,由於增強的圖像質量和顯示器上的擴展視野,顯著簡化了對齊過程。

工作安全與環境保護

MA8 Gen5 配備了節能 LED 光源和精密的曝光光學器件,適用於所有光刻工藝。此外,專用的 UV-LED 泛光曝光裝置可用於壓印應用。 UV-LED 光源不僅降低了運行和維護成本,還提高了工作安全性和環境保護。這消除了汞燈的昂貴和危險的廢物處理。該機器提供更多的安全功能,例如紫外線輻射防護、安全聯鎖裝置和陷阱保護,從而滿足嚴格的安全要求。可選地,配置水銀光源也是可能的。

## 成本效益
憑藉其緊湊的設計,MA8 Gen5 提供了多種工藝,儘管佔地面積減少了,這是具有吸引力的擁有成本的主要因素,節省了昂貴的潔淨室空間。操作元件和可更換部件的可訪問性以及 LED 光源和著名的 SUSS MO 曝光光學器件的使用減少了維護工作。如果出現錯誤或故障,SUSS MicroTec 服務人員可以遠程訪問機器,從而以快速且經濟高效的方式解決問題。

詳細情況 : 結盟

  • 頂面對準(TSA)
  • 底面對準(BSA)
  • 紅外線對準 (IR)
  • DirectAlign®

詳細情況 : 暴露

  • 接近式曝光
  • 軟接觸曝光
  • 硬接觸暴露
  • 真空接觸曝光

詳細情況 : 曝光光學

  • MO Exposure Optics®
  • 消衍射光學器件

詳細情況 : 自動化

  • 自動對準
  • SUSS調平系統

詳細情況

    暴露

    • 實驗室類比軟體
    • 光源光罩優化
    • UV LED光源

    納米壓印光刻

    • 壓印曝光
    • SMILE
    • 印模製備

    粘接

    • 紫外線粘接
    • 鍵對準
    • 融熔接合