DSC500 Projection Scanner

投影式掃描曝光機 DSC500

SÜSS MicroTec 的半自動化投影式掃描曝光機 DSC500 可支援尺寸 450mmx450mm 以內的基板。

裝置有整片晶圓圖像的光罩以及寬光譜的投影光學系統,掃描曝光機以連續的方式對晶圓及基板進行曝光(掃描)。於設計光罩時亦可結合其他功能,如晶圓邊緣的曝光,對後續的步驟(如:電鍍)為一重要的環節。

Highlights

1:1-寬光譜投影鏡面 (Wynn Dyson)

可使用晶圓 / 基板尺寸最大至 450mm x 500mm

可變數位孔隙 (NA) 0.07 至 0.14

最小解析度 3µm

對準精度 1µm

需人工取放基板

SUSS MicroTec Projection Scanner DSC500

投影曝光同樣先將光罩對準晶圓,接著透過光罩和晶圓間的光源將光罩上的圖像投影至晶圓上。通常一次只有晶圓的一部分曝光。透過一步一步重複(步進重 複 - "Step and Repeat")步驟或連續性的方式(掃描 - "scan")將整片晶圓曝光。微影技術的種類和特性是以其解析度、精準度,以及曝光的效能來區分。

SUSS MicroTec 的投影式掃描技術結合了全晶圓對準曝光技術及傳統投影技術的優點於一身,成為光罩對準曝光機和傳統步進式曝光機以外的另一選擇。投影式掃描曝光機先將晶圓 對準含全晶圓圖像的光罩,並透過掃描程序完成光罩圖像的投影。相較於步進式曝光機,掃描式曝光機的產出高、成本低,且解析度可達 3µm。 
投影式掃描曝光在需要高解析度的製程、晶圓表面結構有明顯高低差以及厚膜光阻製程時特別能顯出其優點。 

特色與優點

  • 經濟的微影處理解決方案、高解析度可達 3µm
  • 於厚膜光阻製程可產出更陡峭的側壁角度

Available for:

Automated Projection Scanner

Semiautomated Projection Scanner

 

Downloads
DSC500 Datasheet 518kb
SUSS Product Portfolio 990kb
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