SÜSS MicroTec erweitert mit dem MaskTrack GlueBuster sein Angebot im Bereich Fotomasken-Equipment

SÜSS MicroTec erweitert mit dem MaskTrack GlueBuster sein Angebot im Bereich Fotomasken-Equipment


DGAP-Media / 09.04.2018 / 14:14

 

SÜSS MicroTec erweitert mit dem MaskTrack GlueBuster sein Angebot im Bereich Fotomasken-Equipment


Garching, 9. April 2018 - SÜSS MicroTec, führender Hersteller von Anlagen und Prozesslösungen für die Halbleiterindustrie und verwandte Märkte, gibt heute die Markteinführung des neuen Systems "GlueBuster" für die Entfernung von Pellicle-Klebstoffen bekannt. Das System wurde speziell für die In-fab-Wartung von Fotomasken für die 193i-Lithografie entwickelt.

Das SÜSS GlueBuster-System kombiniert präzise physikalische Kräfte mit einer innovativen Dosiermethode für die spezifischen Reinigungschemikalien und reduziert so das Volumen und die Kosten der Chemikalien, die bei der Entfernung von Pellicle-Klebstoffen verwendet werden. Der Reinigungsprozess sowie alle weiteren chemischen Nebenprodukte sind mit GlueBuster auf den Randbereich der Fotomaske beschränkt, da das neue System ausschließlich auf den Bereich der Kleberreste einwirkt. Damit kann die Unversehrtheit der IC-Strukturen perfekt gewährleistet werden.

"SÜSS MicroTec adressiert mit dem GlueBuster-System wichtige Kosten-, Qualitäts- und Umweltanforderungen, die in Halbleiterindustrie seit Jahrzehnten ein wichtiges Thema sind", sagt Yuta Nagai, General Manager der Fotomasken-Equipment Produktlinie von SÜSS MicroTec. "Durch die Vermeidung langer Reinigungszyklen auf Schwefelsäurebasis und durch die Einbeziehung unterschiedlicher Chemikalien gepaart mit unseren neuen und innovativen Techniken zur Entfernung von Pellicle-Klebstoffen, kann die Wartung von Fotomasken jetzt zu wesentlich geringeren Betriebskosten durchgeführt werden. Damit wird bei deutlich verringerten Prozesskosten die Integrität des aktiven Strukturbereiches optimal aufrechterhalten und die Lebensdauer der einzelnen Fotomaske erheblich verlängert."

GlueBuster ist als Einzelsystem oder als an die MaskTrack X Fotomasken-Reinigungsplattform angebundenes Modul verfügbar. Die neuen Prozesschemikalien des GlueBuster-Systems wurden bereits erfolgreich getestet und in Zusammenarbeit mit Mitsui Chemicals, Inc., einem weltweiten Anbieter von Pellicles sowie einem führenden US-amerikanischen Maskenhersteller ausgewählt.

 

Über SÜSS MicroTec

SÜSS MicroTec ist einer der weltweit führenden Hersteller von Anlagen- und Prozesslösungen für die Mikrostrukturierung in der Halbleiterindustrie und verwandten Märkten. In enger Zusammenarbeit mit Forschungsinstituten und Industriepartnern treibt SÜSS MicroTec die Entwicklung von neuen Technologien wie 3D Integration und Nanoimprint Lithographie sowie Schlüsselprozesse für die MEMS und LED Produktion voran. Weltweit sind mehr als 8.000 installierte Systeme von SÜSS MicroTec im Einsatz, unterstützt von einer globalen Infrastruktur für Applikationen und Service. Hauptsitz der SÜSS Gruppe ist in Garching bei München. Für weitere Informationen besuchen Sie www.suss.com.




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SÜSS MicroTec SE
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franka.schielke@suss.com
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Emittent/Herausgeber: SÜSS MicroTec SE
Schlagwort(e): Forschung/Technologie

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