MA12 Gen3 Mask-Aligner
Anwenderunterstützter Mask-Aligner für Lithografie- und Imprint-Prozesse
Die MA12 Gen3 basiert auf der neuesten Mask-Aligner-Technologie und ist für die anwenderunterstützte Ausrichtung und Belichtung von Wafern bis zu 300 mm und quadratischen Substraten konzipiert. Mit ihren Lösungen für flexibles Handling und Prozesssteuerung empfiehlt sich die MA12 Gen3 für fortschrittliche Packaging-Anwendungen wie 3D-Wafer-Level-Chip-Scale-Packaging sowie für die Produktion und Entwicklung empfindlicher Bauteile wie MEMS. Darüber hinaus bietet die neueste Generation der MA12 verbesserte Funktionen für Standard-, erweiterte und High-End-Prozesse.
Die MA12 Gen3 bietet ein verbessertes ergonomisches und benutzerfreundliches Design, Kosteneffizienz und eine reduzierte Stellfläche. Sie ist perfekt geeignet für den Einsatz in der industriellen Forschung und der mittleren bis Großserienfertigung.
Mit der renommierten SMILE-Technologie setzt die MA12 Gen3 von SUSS neue Maßstäbe in der Vollfeldlithografie für die Märkte MEMS & NEMS, 3D-Integration und Verbindungshalbleiter, insbesondere für eine Vielzahl von Imprint-Anwendungen in den Bereichen LED, Mikrooptik, Augmented Reality und opto-elektronische Sensoren.
Highlights
- Mikro- und Nanoimprinting in einem System
- Zuverlässiges Handling von gebogenen Wafern und empfindlichem Material
- Hervorragende Lichtgleichförmigkeit
- Übersichtliche Prozesskontrolle
- Verbessertes SUSS Nivellierungssystem
- Geringe Stellfläche und verbesserte Ergonomie
Optimale Prozessergebnisse durch Präzision
Der hohe Automatisierungsgrad der MA12 Gen3 ermöglicht hervorragende Prozessergebnisse. Funktionen wie der Constant-Dose-Modus, eine automatische Steuerung der Belichtungszeit und die automatische Ausrichtung tragen zur Optimierung der Prozessparameter bei. Ausgestattet mit der hochwertigen MO-Belichtungsoptik, sorgt die MA12 Gen3 zudem für ideale Belichtungsbedingungen und erzielt so Ergebnisse der Spitzenklasse.
Hoher Bedienkomfort
Funktionen wie ein intuitiv zu bedienender Rezepteditor, eine ausgefeilte Datenprotokollierung und die Möglichkeit der Vergabe von Benutzerrechten vereinfachen die Arbeit des Anwenders und minimieren gleichzeitig die Notwendigkeit von Bedienereingriffen. Darüber hinaus kommen in der MA12 Gen3 hochwertige Digitalmikroskope und -kameras zum Einsatz, die dank verbesserter Bildqualität und erweitertem Sichtfeld auf dem Monitor den Ausrichtungsprozess deutlich vereinfachen.
Arbeitssicherheit und Umweltschutz
Die MA12 Gen3 ist mit einer energieeffizienten LED-Lichtquelle und einer ausgefeilten Belichtungsoptik für alle Lithografieprozesse ausgestattet. Zusätzlich ist diese Flood-Exposure UV-LED-Lichtquelle auch für Imprint-Anwendungen verfügbar. Die UV-LED-Lichtquelle reduziert nicht nur die Betriebs- und Wartungskosten, sondern verbessert auch die Arbeitssicherheit und den Umweltschutz. So entfällt die teure und gefährliche Entsorgung von Quecksilberlampen. Die Maschine bietet weitere Sicherheitsmerkmale wie UV-Strahlenschutz, Sicherheitsverriegelungen und Einklemmschutz und erfüllt damit die strengen Sicherheitsanforderungen.
Kosteneffizienz
Dank ihrer kompakten Bauweise bietet die MA12 Gen3 eine Vielzahl von Prozessen trotz reduzierter Stellfläche, was ein wesentlicher Faktor für die attraktiven Betriebskosten ist und teuren Reinraumplatz spart. Der Wartungsaufwand wird durch die einfache Zugänglichkeit der Bedienelemente und austauschbaren Teile sowie durch die Verwendung der LED-Lichtquelle und der bewährten SUSS MO-Belichtungsoptik reduziert. Im Falle eines Fehlers oder Ausfalls kann der Service von SUSS aus der Ferne auf die Maschine zugreifen, sodass das Problem schnell und kostengünstig behoben werden kann.