MA8 Gen5 Mask-Aligner

Kompakte Aligner-Plattform für Forschung und Mittel- bis Großserienfertigung

SÜSS MicroTecs MA8 Gen5 ist die jüngste Generation der halbautomatischen Mask- und Bond-Aligner. Die neue Plattform bietet optimierte Imprint-Verarbeitungsfunktionen für Standard-, erweiterte und High-End-Prozesse.

Die MA8 Gen5 bietet ergonomisches, bedienerfreundliches Design, Kosteneffizienz und einer kleinen Stellfläche und ist das perfekte Tool für den Einsatz in der Forschung oder der Mittel- bis Großserienfertigung.

SÜSS MicroTecs MA8 Gen5 setzt neue Maßstäbe in der Vollfeld-Lithografie für MEMS & NEMS, 3D-Integration und Verbindungshalbleiter Märkte. Vor allem durch den Einsatz der bekannten SMILE Technologie für eine Vielzahl von Imprint-Anwendungen in den Bereichen LED, MEMS/NEMS, Mikrooptik, Augmented Reality und optoelektronische Sensoren. Zudem werden Prozesse wie das Bond-Alignment oder Fusionsbonden unterstützt.

Highlights

  • Innovatives SÜSS Nivelliersystem
  • Mikro- bis Nanoimprinten in einer Maschine
  • Hervorragende Prozessergebnisse
  • Hohe Bedienerfreundlichkeit
  • Niedrige Cost-of-Ownership
  • Kleine Stellfläche und verbesserte Ergonomie
MA8 Gen5 Mask-Aligner

Beste Prozessergebnisse durch höchste Präzision

Der hohe Automatisierungsgrad der MA8 Gen5 ermöglicht hervorragende Prozessergebnisse. Funktionen wie der Constant-Dose-Modus, eine automatisierte Steuerung für die Belichtungszeit und das Auto-Alignment unterstützen eine Optimierung der Prozessparameter. Zusätzlich ausgestattet mit dem hochwertigen Optiksystem MO Exposure Optics erzielt die MA8 Gen5 optimale Belichtungsbedingungen und damit beste Ergebnisse. Eine ausgefeilte Mechanik sorgt für hohe Justiergenauigkeit. Durch eine spezielle Konstruktion der Ober- und Unterseiten-Mikroskopeinheit (TSA und BSA) entfallen große Bewegungsstrecken des TSA-Mikroskops und somit störende Vibrationen. Es unterstützt verschiedene Imprint-Verfahren für Mikro- und Nanostrukturen. Mit nur geringem Aufwand ist sowohl die Wafer-zu-Wafer-Ausrichtung als auch einfaches Fusionsbonden möglich.

Hoher Bedienkomfort

Funktionen wie ein intuitiver Rezepteditor, Datalogging und die Möglichkeit Nutzungsrechte zu vergeben erleichtern die Arbeit des Users und minimieren gleichzeitig die Notwendigkeit zu intervenieren. Bei der MA Gen5 kommen außerdem hochwertige digitale Mikroskope und Kameras zum Einsatz, die den Justierprozess durch verbesserte Bildqualität und ein vergrößertes Sichtfeld auf dem Monitor (field of view) deutlich vereinfachen.

Umwelt- und Arbeitsschutz

Die MA8 Gen5 ist mit einer energieeffizienten LED-Lichtquelle und dem hochwertigen Optiksystem MO Exposure Optics zur Bearbeitung aller Lithografieprozesse ausgerüstet. Zudem ist eine spezielle UV-LED-Flutbelichtungseinheit für Imprint-Anwendungen erhältlich. Die UV-LED-Lichtquelle bietet neben reduzierten Betriebs- und Wartungskosten auch verbesserten Arbeits- und Umweltschutz. Damit entfällt die teure Sondermüllentsorgung der Quecksilberdampflampen. Die Maschine bietet Sicherheitsvorkehrungen wie UV-Strahlenschutz, Sicherheitsverriegelungen oder Klemmschutzvorrichtungen und wird damit strengen Sicherheitsauflagen gerecht. Die Konfiguration mit einer Quecksilberdampflampe ist optional möglich.

Kosteneffizienz

Mit seinem kompakten Design bietet die MA8 Gen5 eine hohe Prozessvielfalt, trotz reduzierter Stellfläche, ein wichtiger Faktor für die attraktiven Betriebskosten, da somit teure Reinraumfläche eingespart wird. Die leichte Erreichbarkeit der Bedienelemente und der Ersatzteile sowie der Einsatz der LED-Lichtquelle und SÜSS MicroTecs bekannte MO Exposure Optics verringern den maßgeblich den Wartungsaufwand. Im Falle einer Fehlermeldung kann das SÜSS MicroTec Servicepersonal per Fernzugriff auf das Gerät zugreifen, um das Problem schnell und kostengünstig zu lösen.

Details : Alignment

  • Oberseitenjustierung
  • Rückseitenjustierung
  • Infrarotjustierung
  • DirectAlign®

Details : Exposure

  • Schattenwurfverfahren
  • Soft-Kontakt-Modus
  • Hart-Kontakt-Modus
  • Vakuum-Kontakt-Modus

Details : Exposure Optics

  • MO Exposure Optics®
  • Beugungsreduzierende Optik

Details : Automation

  • Auto-Alignment
  • SUSS Leveling System

Details

    Exposure

    • Lab-Simulation-Software
    • Source-Mask-Optimierung
    • UV-LED-Lampenhaus

    Nanoimprint Lithography

    • Imprint-Lithografie
    • SMILE
    • Stempel Herstellung

    Bonding

    • UV-Bonden
    • Bondjustierung
    • Fusionsbonden