SÜSS MicroTec und GenISys verkünden Kooperation bei Lithografie Simulationssoftware für Mask Aligner

Pressemitteilung

SÜSS MicroTec und GenISys verkünden Kooperation bei Lithografie Simulationssoftware für Mask Aligner

Garching, Deutschland, 21.02.2012 - SÜSS MicroTec, führender Hersteller von Anlagen und Prozesslösungen für die Halbleiterindustrie und verwandte Märkte, und die GenISys GmbH, Hersteller von Softwareprodukten im Bereich Nanotechnologie, haben heute ihre Zusammenarbeit bei der Lithografie Simulationssoftware Layout LAB^TM von GenISys mit Mask Alignern von SÜSS MicroTec bekannt gegeben.

Im Rahmen dieser Kooperation wurde die Layout LAB^TM Software erweitert, um alle derzeit verfügbaren SÜSS MicroTec Mask Aligner Belichtungsoptiken zu modellieren. Beide Partner kombinieren ihre Anstrengungen, die SÜSS Mask Aligner Technologie mit der Simulationssoftware Layout LAB^TM von GenISys gemeinsam zu vermarkten. Die Kombination von Lithografiegeräten und zugehöriger Simulationssoftware ist ein weiterer Erfolgsfaktor für eine kosteneffektive Prozess- und Produktentwicklung bei den Endkunden.

'Die neueste und fortschrittlichste Belichtungsoptik von SÜSS MicroTec, MO Exposure Optics, ermöglicht den Einsatz von Technologien aus dem Frontend, wie beispielsweise einer Optimierung der Beleuchtung und des Maskenlayouts', sagt Frank P. Averdung, Vorstandsvorsitzender der SÜSS MicroTec AG. 'Diese ermöglicht in Kombination mit der GenISys Simulationssoftware neue Technologieansätze, wobei die komplexe Auswahl aus einer Vielzahl verschiedenster Lichtquellen und -formen durch die Simulationsergebnisse erheblich vereinfacht werden kann.'

'Layout LAB^TM ist eine professionelle 3D Simulationsplattform für optische Proximity Lithografie, mit deren Hilfe eine große Anzahl von Simulationen quasi über Nacht durchgeführt werden kann. Dies ermöglicht eine Optimierung des Maskenlayouts und der Belichtungsbedingungen. Neben den Kosteneinsparungen hilft dies unseren Kunden die Zeit zur Markteinführung zu verkürzen', sagt Nezih Unal, Vice President der GenISys GmbH.

Über GenISys
Die GenISys GmbH mit Sitz in München und Vertretungen in Tokio, Japan und Santa Clara, Kalifornien, entwickelt, vertreibt und unterstützt Hochleistungssoftware für die Optimierung bei Mikrostrukturierungsprozessen. GenISys adressiert die Märkte e-beam Direktschreiben und optische Lithografie und fokussiert sich dabei auf die technologische Führerschaft bei der prozessierung von Layoutdaten, Modellierung, Korrektur und Optimierung von Litographieprozessesn kombiniert mit hocheffizieter Softwaretechnik, bei gleichzeitig hoher Benutzerfreundlichkeit. Die Produkte von GenISys ermöglichen den IC und MEMS Herstellern, sowie den Forschungsabteilungen und Systemanbietern bei der Entwicklung und Einführung neuer Technologien der Mikrostrukturierung eine hohe Effizienz und Benutzerfreundlichkeit. Für weitere Informationen besuchen Sie www.genisys-gmbh.com .

Ansprechpartner:
Nezih Unal
unal@genisys-gmbh.com, +49 89 330919 760

Über SÜSS MicroTec
SÜSS MicroTec (gelistet im TecDAX der Deutsche Börse AG) ist einer der weltweit führenden Hersteller von Anlagen- und Prozesslösungen für die Mikrostrukturierung in der Halbleiterindustrie und verwandten Märkten. In enger Zusammenarbeit mit Forschungsinstituten und Industriepartnern treibt SÜSS MicroTec die Entwicklung von neuen Technologien wie 3D Integration Nanoimprint Lithographie und Schlüsselprozesse für die MEMS und LED Produktion voran. Weltweit sind mehr als 8.000 installierte Systeme von SÜSS MicroTec im Einsatz, unterstützt von einer globalen Infrastruktur für Applikationen und Service. Hauptsitz der SÜSS Gruppe ist in Garching bei München. Für weitere Informationen besuchen Sie www.suss.com



Kontakt:
SÜSS MicroTec AG
Franka Schielke
Schleissheimer Strasse 90
85748 Garching, Deutschland
Tel.: +49 (0)89 32007-161
Fax: +49 (0)89 32007-451
Email: franka.schielke@suss.com